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J-GLOBAL ID：201702255116157689   整理番号：17A0364987

WC/Coのその場引かき試験と摩耗シミュレーション【Powered by NICT】

In situ scratch testing and abrasion simulation of WC/Co

著者 (5件)： Gee Mark (National Physical Laboratory, Hampton Road, Teddington, United Kingdom) ,  Mingard Ken (National Physical Laboratory, Hampton Road, Teddington, United Kingdom) ,  Nunn John (National Physical Laboratory, Hampton Road, Teddington, United Kingdom) ,  Roebuck Bryan (National Physical Laboratory, Hampton Road, Teddington, United Kingdom) ,  Gant Andrew (National Physical Laboratory, Hampton Road, Teddington, United Kingdom)
資料名： International Journal of Refractory Metals & Hard Materials  (International Journal of Refractory Metals & Hard Materials)
巻： 62  号： PB  ページ： 192-201  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0059B  ISSN： 0263-4368  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 摩耗抵抗が重要であるWC/Co超硬合金は多くの用途で使用されている。しかし,最近の研究にもかかわらず,摩耗の微細構造基盤は完全には理解されていない。球端ダイヤモンド圧子は研磨したWC/Coサンプルを横切る荷重を受ける移動損傷を発生させた設計・製作NPLマイクロトライボメータを用いておこなったin situ引かき試験の結果を述べた。マイクロトライボメータは高分解能SEMのチャンバーに搭載した反復引かきにより発生した損傷の連続画像とビデオを捕捉することができた。実験では,反復の数を変化させることの影響を通過し,反復パスは,以前のパスのトップ上の同じ側臥位または摩耗をシミュレートするためのランダム横方向オフセットを行ったかどうかも調べた。結果は,観察された損傷はWC/Co微細構造に関連した詳細に関する貴重な情報を与えた。を付加した損傷蓄積のビデオで観察された,損傷の主要な機構は,WC結晶粒の漸進的な断片化した;それらは最終的にデブリとして摩耗界面から除去されるまでWCフラグメントの運動は一つの通路から次の通路へ追跡することができた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： オフセット ,  微細構造 ,  耐摩耗性 ,  結晶粒 ,  ダイヤモンド圧子 ,  録画装置 ,  超硬合金 ,  界面 ,  高分解能 ,  *引かき試験 ,  *摩耗 ,  連絡通路 ,  チャンバ ,  *摩耗シミュレーション ,  *機械的性質 ,  耐性 ,  *性質
準シソーラス用語： 画像列 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  機械的性質  (WB02030U)

タイトルに関連する用語 (4件)： WC ,  CO ,  引かき試験 ,  摩耗シミュレーション