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J-GLOBAL ID：201702255201502054   整理番号：17A1423364

電子ビーム蒸着によるセラミックコーティング蒸着【Powered by NICT】

Ceramic coating deposition by electron beam evaporation

著者 (5件)： Oks E.M. (Tomsk State University of Control Systems and Radioelectronics, 40 Lenin Ave., Tomsk 634050, Russia) ,  Oks E.M. (Institute of High Current Electronics SB RAS, 2/3, Akademichesky Ave., Tomsk 634055, Russia) ,  Tyunkov A.V. (Tomsk State University of Control Systems and Radioelectronics, 40 Lenin Ave., Tomsk 634050, Russia) ,  Yushkov Yu.G. (Tomsk State University of Control Systems and Radioelectronics, 40 Lenin Ave., Tomsk 634050, Russia) ,  Zolotukhin D.B. (Tomsk State University of Control Systems and Radioelectronics, 40 Lenin Ave., Tomsk 634050, Russia)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 325  ページ： 1-6  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 保護セラミックを主体にした被覆の蒸着のための新しい方法を記述した。方法の新規性は,誘電体ターゲットのビーム生成プラズマ中でのイオンはターゲット表面電荷ビルドアップを中和電子ビームのユニークな相互作用にある。この効果は著者らの新規前段真空圧力,プラズマ陰極電子ビーム源,エネルギー,集束電子ビームを生成し,関連したビーム誘起プラズマを,1 100Paの以前は得難かった圧力範囲での使用によりもたらされる。ここで述べた研究は,電子ビーム照射によるアルミニウム酸化物セラミックとアルミナ被覆の堆積の蒸発を示した。セラミック被覆Ti基板の微小硬さと元素組成の均一な深さ分布の有意な増加を決定した。ここで記したアプローチは産業の様々な分野における被覆の蒸着のための新しい機会を開く。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *蒸着 ,  深さ分布 ,  電子照射 ,  プラズマ ,  チタン ,  *電子ビーム ,  *セラミック ,  アルミニウム ,  *電子ビーム蒸着 ,  微小硬さ ,  被覆 ,  表面電荷 ,  *セラミック被覆 ,  誘電体 ,  中性化

分類 (1件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 電子ビーム蒸着 ,  セラミックコーティング ,  蒸着