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J-GLOBAL ID：201702255430790364   整理番号：17A1537556

Niをドープしたグラフェン上でのCO分子によるNOの接触還元:DFT研究【Powered by NICT】

Catalytic reduction of NO by CO molecules over Ni-doped graphene: a DFT investigation

著者 (2件)： Esrafili Mehdi D. (Laboratory of Theoretical Chemistry, Department of Chemistry, University of Maragheh, P.O. Box: 5513864596, Maragheh, Iran. [e-mail]) ,  Saeidi Nasibeh
資料名： New Journal of Chemistry  (New Journal of Chemistry)
巻： 41  号： 21  ページ： 13149-13155  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0785A  ISSN： 1144-0546  CODEN： NJCHE5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究の目的は,CO分子によるNOの還元におけるNiをドープしたグラフェンの触媒活性を研究することである。吸着エネルギー,幾何学的パラメータ,反応障壁,および熱力学的性質は,M06-2X密度汎関数を用いて計算した。結果から,反応は二段階,表面上の二個のCO分子の共吸着により開始され,安定な(OCON)2中間体を形成する引続いて分子の添加ではなくで進行することを示唆した。次に,小さな活性化エネルギーを克服することにより,N_2分子は無視できる程度の吸着エネルギーに起因する表面から容易に脱離できる形成される。最後に,二CO_2分子は表面,無視できる活性化エネルギーを必要とする上で形成された。我々の結果によれば,NiドープグラフェンはCO分子による還元のための潜在的な触媒として使用できない。これらの理論的結果は,毒性NO及びCO分子の除去のための実用的応用に有用と考えられる。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ニッケル ,  *ドーピング ,  *グラフェン ,  *一酸化炭素 ,  *一酸化窒素 ,  *接触還元 ,  *ニッケル触媒 ,  触媒活性 ,  吸着エネルギー ,  形状効果 ,  ポテンシャル障壁 ,  熱力学的性質 ,  計算 ,  密度汎関数法 ,  共吸着 ,  活性化エネルギー ,  窒素 ,  二酸化炭素 ,  Gibbs自由エネルギー ,  ポテンシャルエネルギー ,  排ガス処理
準シソーラス用語： 幾何形状効果 ,  反応障壁 ,  密度汎関数計算

分類 (2件)： その他の触媒  (CB06123Z) ,  有害ガス処理法  (SC04030H)

タイトルに関連する用語 (9件)： Ni ,  ドープ ,  グラフェン ,  CO ,  分子 ,  NO ,  接触還元 ,  DFT ,  研究