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J-GLOBAL ID：201702255856894901   整理番号：17A0730998

YSZ膜の残留応力に及ぼす酸素分圧と蒸着速度の影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Influences of Oxygen Partial Pressure and Deposition Rate on Residual Stress of YSZ Thin Films

著者 (4件)： Xiao Qiling (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Shao Shuying (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Shao Jianda (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Fan Zhengxiu (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences)
資料名： Zhongguo Jiguang  (Zhongguo Jiguang)
巻： 36  号： 5  ページ： 1195-1199  発行年： 2009年 
JST資料番号： C5022A  ISSN： 0258-7025  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： Y_2O_3でドープしたZRO_2混合物を原料として用い,異なる酸素分圧と堆積速度で,電子ビーム蒸発法により,酸化イットリウム(YSZ)薄膜を調製した。YSZ薄膜の残留応力を,ZYGO MARK IIIGPIデジタル波面干渉計を用いて研究し,残留応力に及ぼす酸素分圧と蒸着速度の影響を論じた。実験結果により,YSZ膜の残留応力は,異なる酸素分圧および堆積速度の下で,引張応力であった。応力値は,酸素分圧の増加とともに,最初に増加し,次に減少し,そして,堆積速度の増加とともに,単調に増加した。熱応力は薄膜の引張応力特性に決定的な役割を果たすが,応力の大きさは固有応力と付加応力によって影響される。試料のX線回折(XRD)試験により、薄膜の微細構造の変化に合わせて、応力の形成原因について説明した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 干渉計 ,  ドーピング ,  微細構造 ,  薄膜 ,  *残留応力 ,  引張応力 ,  堆積速度 ,  ディジタル方式 ,  熱応力 ,  電子ビーム蒸着 ,  波面 ,  X線回折 ,  酸化イットリウム ,  *蒸着速度 ,  *酸素分圧

著者キーワード (5件)： thin films ,  residual stress ,  YSZ films ,  oxygen partial pressure ,  deposition rate

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： YSZ ,  残留応力 ,  酸素分圧 ,  蒸着速度 ,  研究