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J-GLOBAL ID：201702255975385441   整理番号：17A0731067

異なる洗浄技術による基板の表面粗さを,全積分法を用いて研究した。【JST・京大機械翻訳】

Study on Surface Roughness of Substrates under Different Cleaning Techniques by Total Integrated Scatter

著者 (4件)： Hou Haihong (Department of Physics,Changshu Institute of Technology) ,  Shen Jian (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences) ,  Zhang Dawei (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences) ,  Fan Zhengxiu (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences)
資料名： Zhongguo Jiguang  (Zhongguo Jiguang)
巻： 36  号： 6  ページ： 1559-1562  発行年： 2009年 
JST資料番号： C5022A  ISSN： 0258-7025  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 基板の表面粗さに及ぼす種々の洗浄プロセスの影響を研究するために,超音波洗浄のK9ガラス基板を,全積分散乱(TIS)装置を用いて,種々の条件下で研究した。本論文では,K9ガラス基板とENDの源清洗の表面粗さの二乗平均平方根(RMS)粗さを系統的に特性評価した。結果により、K9ガラス基材の異なる条件下での超音波洗浄後、洗浄過程において表面が損傷されるため、RMSの粗さはいずれも増加することが分かった。しかし,表面粗さの変化は,イオンビーム,洗浄時間,イオンビームエネルギーなどの実験パラメータによって影響され,適切な実験パラメータを選択することによって,表面粗さを低下させることができた。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ガラス ,  *表面粗さ ,  散乱 ,  イオンビーム ,  *積分 ,  実効値 ,  超音波洗浄 ,  キャラクタリゼーション
準シソーラス用語： ガラス基板 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： thin films ,  substrate ,  surface roughness ,  cleaning ,  scatter

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 洗浄 ,  表面粗さ ,  積分法 ,  研究