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J-GLOBAL ID：201702256088371036   整理番号：17A1560555

アーク層間,窒素ドーピングと焼なましによるDLC膜の増強された電気化学的性質【Powered by NICT】

Enhanced electrochemical properties of the DLC films with an arc interlayer, nitrogen doping and annealing

著者 (9件)： Son Myoung Jun (School of Materials Science and Engineering, Pusan National University, Busan 609-735, Republic of Korea) ,  Son Myoung Jun (Global Frontier R&D Center for Hybrid Interface Materials, Pusan National University, Busan 609-735, Republic of Korea) ,  Zhang Teng Fei (Global Frontier R&D Center for Hybrid Interface Materials, Pusan National University, Busan 609-735, Republic of Korea) ,  Zhang Teng Fei (National Core Research Center for Hybrid Materials solution, Pusan National University, Busan 609-735, South Korea) ,  Jo Yeong Ju (School of Materials Science and Engineering, Pusan National University, Busan 609-735, Republic of Korea) ,  Jo Yeong Ju (Global Frontier R&D Center for Hybrid Interface Materials, Pusan National University, Busan 609-735, Republic of Korea) ,  Kim Kwang Ho (School of Materials Science and Engineering, Pusan National University, Busan 609-735, Republic of Korea) ,  Kim Kwang Ho (Global Frontier R&D Center for Hybrid Interface Materials, Pusan National University, Busan 609-735, Republic of Korea) ,  Kim Kwang Ho (National Core Research Center for Hybrid Materials solution, Pusan National University, Busan 609-735, South Korea)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 329  ページ： 77-85  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金属基板へのDLC膜とその貧弱な接着の低い電気伝導率は廃水処理のような電極の応用のためのDLC膜の主な欠点である。本研究では,電極,金属Ti板上のDLC膜の各種は,PECVD法により合成した。電極の付着力,電気的および電気化学的性質に及ぼすアーク中間層,窒素ドーピング,およびポストアニーリングプロセスの効果を,本研究で系統的に調べた。DLC膜とTi基板間のアークイオンプレーティング(AIP)法による多層Ti/TiCの導入はTi基板へのDLC膜の付着力を促進し,電極寿命の大きな増加をもたらした。さらに,AIPプロセス中に生成されたアーク液滴は,DLC膜の表面積を拡大し,電極の電気化学的活性を増加させた。DLC膜への窒素(3.4at.%)少量のドーピングにより,膜DLCの抵抗率は有意に減少し,電気化学的活性が増強された。N/Ti電極に及ぼすポストアニーリング温度の影響を,対応する電気的および電気化学的性質に関して研究した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *焼なまし ,  電気抵抗率 ,  電気伝導率 ,  *電気化学 ,  付着力 ,  *DLC膜 ,  廃水処理 ,  *アーク放電 ,  液滴 ,  チタン ,  表面積 ,  プラズマCVD ,  中間層 ,  *電気化学的特性 ,  *窒素ドーピング

著者キーワード (5件)： 窒素ドープDLC膜 ,  金属Tiへの接着力 ,  Resistivity ,  電気化学的性質 ,  PECVD

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (6件)： アーク ,  窒素ドーピング ,  焼なまし ,  DLC膜 ,  増強 ,  電気化学的性質