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J-GLOBAL ID：201702256385006896   整理番号：17A0445107

スクリーンメッシュテンプレートを用いた蒸発パターン形成による高疎水性のためのミクロテキスチャード表面の作製【Powered by NICT】

Fabrication of micro-textured surfaces for a high hydrophobicity by evaporative patterning using screen mesh templates

著者 (6件)： Tokuhisa Hideo (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan) ,  Tsukamoto Shiho (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan) ,  Morita Satoko (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan) ,  Ise Shogo (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan) ,  Tomita Mitsuru (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan) ,  Shirakawa Naoki (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 400  ページ： 64-70  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,高疎水性のマイクロ組織化表面は,疎水性ポリマーの蒸発パターン形成により作製した,テンプレートとして種々のタイプのスクリーンメッシュを用いてCYTOPであった。スクリーンメッシュは,親水性ガラス基板高分子溶液を流延成形テンプレート上に表面を濡らす完全に続いて上に設置した。溶液の遅い蒸発はポリマ濃度,メッシュ数,蒸発温度,メッシュのタイプに依存して微細組織パターンの様々なタイプを与え,メッシュがcalendaredかどうか。構造を光学顕微鏡と走査型電子顕微鏡,および接触角(CA)測定により特性化した。パターン形成の機構を論じた。最後に,マイクロ組織表面へのグラフェンの添加は超疎水性表面(CA: 155°),これは階層的ミクロ/ナノ構造を形成できると結論を与えた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 重合体 ,  *パターン形成 ,  走査電子顕微鏡 ,  高分子溶液 ,  *疎水性 ,  接触角 ,  ナノ構造 ,  キャラクタリゼーション ,  流延成形 ,  *蒸発 ,  親水性 ,  グラフェン
準シソーラス用語： 超疎水性 ,  ガラス基板 ,  疎水性高分子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 疎水性 ,  微細組織化表面 ,  蒸発パターン形成 ,  スクリーンメッシュ ,  テンプレート

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 蒸発 ,  パターン形成 ,  疎水性 ,  作製