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J-GLOBAL ID：201702256548621055   整理番号：17A0348832

種々の基板温度でのパルスレーザ蒸着により成長させたNb薄膜の形態と構造【Powered by NICT】

Morphology and Structure of Nb Thin Films Grown by Pulsed Laser Deposition at Different Substrate Temperatures

著者 (5件)： Gontad F (Department of Mathematics and Physics “Ennio De Giorgi”, University of Salento, and National Institute of Nuclear Physics (INFN)) ,  Lorusso A (Department of Mathematics and Physics “Ennio De Giorgi”, University of Salento, and National Institute of Nuclear Physics (INFN)) ,  Manousaki A (Institute of Electronic Structure and Laser (IESL), Foundation for Research and Technology-Hellas (FORTH)) ,  Klini A (Institute of Electronic Structure and Laser (IESL), Foundation for Research and Technology-Hellas (FORTH)) ,  Perrone A (Department of Mathematics and Physics “Ennio De Giorgi”, University of Salento, and National Institute of Nuclear Physics (INFN))
資料名： Journal of Materials Science & Technology  (Journal of Materials Science & Technology)
巻： 32  号： 11  ページ： 1192-1196  発行年： 2016年 
JST資料番号： T0871A  ISSN： 1005-0302  CODEN： JSCTEQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,種々の基板温度でのパルスレーザ蒸着によりNb薄膜の作製,300~660Kの範囲を報告した。基板温度の変化はSi(100)基板表面に優れたNb薄膜接着を有意に影響しないが,570Kまでの基板温度の増加は,形態と粗さの点で成長した膜の改善を促進する。このような改善は,減少した表面粗さを持つ広い柱状構造の形成を通して達成され,約5nmであり,走査電子顕微鏡(SEM)と原子間力顕微鏡により示された。570K以上の温度の使用は,膜内の不規則構造の形成による基板粗さ,SEM断面積解析によって観測されたを増加させ,材料の結晶構造に関連した改善をもたらさなかった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 断面積 ,  *ニオブ ,  走査電子顕微鏡 ,  結晶構造 ,  *薄膜 ,  原子間力顕微鏡 ,  *基板温度 ,  接着 ,  *パルスレーザ蒸着
準シソーラス用語： 規則構造 ,  柱状構造 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： パルスレーザ蒸着 ,  ニオブ ,  超伝導ラジオ周波数共振器 ,  蒸着温度

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 基板温度 ,  パルスレーザ蒸着 ,  成長 ,  Nb ,  薄膜 ,  形態