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J-GLOBAL ID:201702256570524725   整理番号:17A1187395

電子構造とTiドープITO薄膜の機械的性質に及ぼす熱処理の効果の調査【Powered by NICT】

Probing the effects of thermal treatment on the electronic structure and mechanical properties of Ti-doped ITO thin films
著者 (11件):
資料名:
巻: 721  ページ: 333-346  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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チタンドープ酸化インジウムスズ薄膜をゾル-ゲルスピンコーティングプロセスによって合成した。表面化学結合状態と機械的性質はチタン含有量(2および4at%)およびアニーリング温度400~600°Cの範囲の100°Cの増分の関数として研究した。Raman分析は,調製した試料のためのフォノン振動を研究するために実行し,結果はITO振動モードの存在を明らかにした。膜材料の元素組成,結合状態と結合エネルギーをX線光電子分光法(XPS)法を用いて調べた。XPSの結果は,薄膜コーティングの表面上の酸素への金属元素(In, Sn, Ti)の比は薄膜の表面上の酸化物層の増加により減少することを示した。また,600°Cまでのアニーリング温度を増加させることにより,Tiの2pおよびCl2P信号は,より厚い表面酸化層による2および4at%Ti含有量,それぞれ,両者の検出はなかった。合成した膜の機械的性質はナノインデンテーション法を用いて評価した。硬度(H)と弾性率(E)の変化は,at%とアニーリング温度の異なるTiで観察された。硬さはat%Ti含有量試料6.3 6.6GPaと6.7 6.8 2GPaと4の範囲内であったが,弾性係数はat%と4at%Ti含有量2試料に対する137 143と139 143GPaの範囲内であった。最も高いHおよびEの組合せは600°Cでアニールした4%Ti含有量の試料で達成された。さらに,H/E比は4.5×10~ 2から5.0×10~ 2の範囲で妥当なレベル耐摩耗性を反映する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 

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