文献

J-GLOBAL ID：201702256676357260   整理番号：17A0963988

ナノ加工を用いた物理的シミュレーションを用いたコネクタにおける接触抵抗の研究【Powered by NICT】

Study of Contact Resistance in Connectors With Physical Simulation Using Nanofabrication

著者 (5件)： Fukuyama Yasuhiro (National Metrology Institute of Japan, Tsukuba, Japan) ,  Sakamoto Norihiko (National Metrology Institute of Japan, Tsukuba, Japan) ,  Kondo Takaya (Yazaki Parts Co., Ltd., Makinohara, Shizuoka, Japan) ,  Onuma Masanori (Yazaki Parts Co., Ltd., Makinohara, Shizuoka, Japan) ,  Kaneko Nobu-Hisa (National Metrology Institute of Japan, Tsukuba, Japan)
資料名： IEEE Transactions on Instrumentation and Measurement  (IEEE Transactions on Instrumentation and Measurement)
巻： 66  号： 6  ページ： 1248-1253  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0232A  ISSN： 0018-9456  CODEN： IEIMAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： コネクタの電気接点の接触抵抗は,電流の流れの収縮と二つの電極間の高抵抗材料の膜抵抗から生じる抵抗から構成されている。くびれ抵抗は接触点とそのサイズの数に依存する。単純化した単一点接触の場合には,抵抗を解析的に計算することができるが,これは実際の接触の場合には当てはまらない。電気接点とその抵抗の物理的構造の間の関係を確立するために,接触構造を表す試料は圧縮抵抗を測定するためのSiチップ上に作製した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *接触抵抗 ,  *ナノメータ加工 ,  電気接点 ,  簡素化 ,  *シミュレーション ,  電流 ,  点接触 ,  *コネクタ
準シソーラス用語： シリコンチップ ,  接触点 ,  膜抵抗 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 電流,電圧,電荷の計測法・機器  (AD07020C) ,  R,L,C,Q,インピーダンス,誘電率の計測法・機器  (AD07030N)

タイトルに関連する用語 (6件)： ナノ加工 ,  物理 ,  シミュレーション ,  コネクタ ,  接触抵抗 ,  研究