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J-GLOBAL ID：201702256865212058   整理番号：17A0763197

高分子埋め込み界面の構造と性質に与えるプラズマ効果

Plasma treatment effect on polymer buried interfacial structure and property

著者 (5件)： Ulrich Nathan W. (Department of Chemistry, University of Michigan, 930 North University Avenue, Ann Arbor, Michigan 48109, USA. [e-mail]) ,  Andre John ,  Williamson Jaimal ,  Lee Kang-Wook ,  Chen Zhan
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 19  号： 19  ページ： 12144-12155  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 付着はミクロエレクトロニクスを含む多くの工業での応用に重要である。フリップチップ組み立て部品は一般には信頼度を高めるためにエポキシアンダーフィルを用いており,アンダーフィルの埋め込み界面構造がデバイス寿命にとって重要である。この界面での付着が不完全な場合,早期デバイス破損に繋がる。付着強度を高める一つの方法はアンダーフィルに付着させる基板のプラズマ処理であるが,それが付着強度を高める機構に対するin situ分子レベルで研究は完全ではない。本研究では,和周波数発生(SFG)振動分光法を用いて,高分子/エポキシレジン接触界面について分子レベルで調べた。高分子表面をプラズマ処理し,その効果を調べた。プラズマ処理前後の高分子とエポキシとの接触界面に対して,処理効果がSFGにより観測できるかどうかを調べた結果,エポキシと未処理の高分子の接触界面の分子構造は,プラズマ処理高分子とエポキシの接触界面とは大きく違っていることが認められた。プラズマ処理高分子表面を含む接触界面は不規則性が高く,高い接着強度を示した。本研究により,高分子/エポキシ接触界面の接触構造と特性に与えるプラズマ処理効果が明らかになり,プラズマ処理による付着強度の強化機構に関する深い理解が得られた。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： *高分子 ,  *プラズマ加工 ,  表面構造 ,  付着 ,  半導体素子 ,  超小形回路技術 ,  *和周波数発生 ,  *付着強さ ,  *エポキシ樹脂 ,  *振動分光法 ,  界面 ,  性質
準シソーラス用語： *界面構造 ,  *界面特性 ,  フリップチップ素子 ,  アンダーフィル ,  *接触界面 ,  不規則性

分類 (5件)： 応用物理化学的操作・装置  (XE03000E) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  有機化合物の赤外スペクトル及びRaman散乱,Ramanスペクトル  (BM08064T) ,  高分子固体の力学的性質  (CG02023D) ,  表面処理  (YH04112X)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高分子 ,  埋め込み ,  界面 ,  性質 ,  プラズマ