文献

J-GLOBAL ID：201702257574922868   整理番号：17A1449900

元素ブロック材料の未来展望 シロキサン系元素ブロック材料の創製

著者 (1件)： 郡司天博 (東京理大 理工)
資料名： 化学工業  (Chemical Industry)
巻： 68  号： 11  ページ： 842-848  発行年： 2017年11月01日 
JST資料番号： F0101A  ISSN： 0451-2014  CODEN： KAKOA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ポリオクタヘドラルシルセスキオキサン(T₈^H)やかご型オクタシリケート(Q₈^TMAやQ₈^DMS)は元素ブロックに相当する。トリクロロシランよりも取り扱いが容易なトリエトキシシランを,ヘキサン,メタノール,塩酸存在下で加水分解重縮合することにより,約10%の収率でT₈^Hが生成することを見い出した。以下について述べた。1)T₈^Hを用いたかご型シルセスキオキサン高分子の合成,2)T₈^Hを用いた全シロキサン型POSS高分子の合成,3)Q₈^DMS,4)コーティング膜および自立膜の調製。

シソーラス用語： 材料 ,  *ポリシルセスキオキサン ,  化学合成 ,  膜 ,  透過率 ,  *オリゴマ ,  *高分子有機-無機ハイブリッド ,  重縮合 ,  加水分解 ,  高分子膜 ,  被覆 ,  ガス分離 ,  膜分離
準シソーラス用語： 元素ブロック材料 ,  自立膜 ,  多孔質膜 ,  *POSS【オリゴマ】

分類 (2件)： 無機重合体  (YH07140R) ,  高分子と低分子との反応  (CG03020L)

物質索引 (1件)： トリエトキシシラン

タイトルに関連する用語 (5件)： 元素 ,  未来 ,  展望 ,  シロキサン ,  創製