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J-GLOBAL ID：201702257628702690   整理番号：17A1459915

Ni_80Fe_20/Cu膜構造のためのACおよびDC遮蔽特性【Powered by NICT】

AC and DC-shielding properties for the Ni₈₀Fe₂₀/Cu film structures

著者 (9件)： Trukhanov A.V. (SSPA “Scientific and Practical Materials Research Centre of NAS of Belarus”, P. Brovki Str., 19, Minsk 220072, Belarus) ,  Trukhanov A.V. (National University of Science and Technology “MISiS”, Leninskii Av., 4, Moscow 119049, Russia) ,  Grabchikov S.S. (SSPA “Scientific and Practical Materials Research Centre of NAS of Belarus”, P. Brovki Str., 19, Minsk 220072, Belarus) ,  Solobai A.A. (SSPA “Scientific and Practical Materials Research Centre of NAS of Belarus”, P. Brovki Str., 19, Minsk 220072, Belarus) ,  Tishkevich D.I. (SSPA “Scientific and Practical Materials Research Centre of NAS of Belarus”, P. Brovki Str., 19, Minsk 220072, Belarus) ,  Trukhanov S.V. (SSPA “Scientific and Practical Materials Research Centre of NAS of Belarus”, P. Brovki Str., 19, Minsk 220072, Belarus) ,  Trukhanov S.V. (National University of Science and Technology “MISiS”, Leninskii Av., 4, Moscow 119049, Russia) ,  Trukhanova E.L. (SSPA “Scientific and Practical Materials Research Centre of NAS of Belarus”, P. Brovki Str., 19, Minsk 220072, Belarus) ,  Trukhanova E.L. (National University of Science and Technology “MISiS”, Leninskii Av., 4, Moscow 119049, Russia)
資料名： Journal of Magnetism and Magnetic Materials  (Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻： 443  ページ： 142-148  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0644A  ISSN： 0304-8853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 異なる厚さと数部分磁気層の電気化学法により得られた多層Ni_80Fe_20/Cu膜シールド。磁気的性質と遮蔽特性は層の厚さと数の関数として調べた。厚さの異なるNi_80Fe_20膜の磁気特性における差は電着過程中の頂部と底部の膜表面上の欠陥層の形成によるものであった。これらの層は高欠陥密度(結果として低い鉄含有量)を有する層として特徴づけられる。磁気特性の主偏差は薄い膜に典型的なものである。DCおよびAC遮蔽と議論した結果を測定した。DC遮蔽有効性の最大値は,大きな厚さ(80 400μm)を有する少数の磁性層を持つ多層膜試料に対して観察された。DC遮蔽有効性の最小値は磁気層(5μm)の最小厚さと層の最大数(80層)を持つ多層試料で観察された。シャント機構と良く一致した。低周波数範囲においてAC遮蔽有効性の最大値は大きな厚さを有する少数磁気層を持つ試料のためのDC遮蔽の場合のように観察された。周波数の増加と共に状況が急激に変化し,AC遮蔽効果は層の最大数をもつ試料の方が高かった。40kHz以上の周波数範囲でAC遮蔽有効性は透過性値の激減によって大きく減少した。その結果,吸収損失(SE_abs。)の減少をもたらした。異なる外部影響下の多層Ni_80Fe_20/Cu膜試料の主な遮蔽機構を議論した。範囲300Hz 20kHzにおける電磁遮蔽の主要寄稿は,吸収および反射過程である。範囲20kHz 50kHzにおいて,主要な遮蔽機構は反射と反射した。300Hz 50kHz周波数範囲で透磁率と電気伝導率の主徴値が異なる多数の薄層を持つ多層構造を使用する最も適切であった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 薄膜 ,  LF【周波数】 ,  多層 ,  電磁遮蔽 ,  鉄 ,  *膜構造 ,  多層構造 ,  周波数 ,  透磁率 ,  磁性 ,  磁気 ,  電着 ,  電気伝導率 ,  多層膜
準シソーラス用語： 遮蔽効果 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 多層膜 ,  電磁波シールド ,  パーマロイ ,  磁気的性質

分類 (3件)： 酸化物結晶の磁性  (BM06050E) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T) ,  金属の磁区及び磁化過程  (BM06112D)

タイトルに関連する用語 (5件)： Cu ,  膜構造 ,  Ac ,  DC ,  遮蔽