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J-GLOBAL ID：201702257772147376   整理番号：17A0748309

コンビナトリアル材料合成のための計算機制御の下での複数の薄層のその場イオンビームスパッタ蒸着とX線光電子分光法(XPS)【Powered by NICT】

In situ ion beam sputter deposition and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) of multiple thin layers under computer control for combinatorial materials synthesis

著者 (9件)： Wilson Thomas A. (School of Mechanical and Systems Engineering, Newcastle University, Newcastle upon Tyne, NE1 7RU, United Kingdom) ,  Barlow Anders J. (National EPSRC XPS User’s Service (NEXUS), School of Mechanical and Systems Engineering, Newcastle University, Newcastle upon Tyne, NE1 7RU, United Kingdom) ,  Foster Michael L. (School of Mechanical and Systems Engineering, Newcastle University, Newcastle upon Tyne, NE1 7RU, United Kingdom) ,  Bravo Sanchez Mariela (National EPSRC XPS User’s Service (NEXUS), School of Mechanical and Systems Engineering, Newcastle University, Newcastle upon Tyne, NE1 7RU, United Kingdom) ,  Bravo Sanchez Mariela (CINVESTAV-Unidad Queretaro, Libramiento Norponiente 2000, Real de Juriquilla, Queretaro, Qro. 76000, Mexico) ,  Portoles Jose F. (National EPSRC XPS User’s Service (NEXUS), School of Mechanical and Systems Engineering, Newcastle University, Newcastle upon Tyne, NE1 7RU, United Kingdom) ,  Sano Naoko (National EPSRC XPS User’s Service (NEXUS), School of Mechanical and Systems Engineering, Newcastle University, Newcastle upon Tyne, NE1 7RU, United Kingdom) ,  Cumpson Peter J. (National EPSRC XPS User’s Service (NEXUS), School of Mechanical and Systems Engineering, Newcastle University, Newcastle upon Tyne, NE1 7RU, United Kingdom) ,  Fletcher Ian W. (National EPSRC XPS User’s Service (NEXUS), School of Mechanical and Systems Engineering, Newcastle University, Newcastle upon Tyne, NE1 7RU, United Kingdom)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 49  号： 1  ページ： 18-24  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 計算機制御のもとで超薄層の堆積は,新しいセンサ,材料スクリーニング,不均一触媒作用,半導体接合近傍のバンドオフセットのプロービングと多くの他の応用の研究にしばしば必要となる。しばしば大面積試料は,複数の標的からあるいは原子層堆積(A LD)によるマグネトロンスパッタリングにより合成した。試料をX線光電子分光法(XPS)や他の表面敏感分光法による検査のための分析室に移すことができた。これらのツールのウエハスケールの性質は,組合せ研究で必要であるよりもしばしば大きく,数平方センチメートルやミリメートルもの試料は各組成試験するために十分である。スパッタターゲットは法外に高価で試料は蒸着と分析の間の移動させ,しばしば貴金属を使用するので大きなサイズは増加した資本コスト,登録の問題につながる。代わりに市販のXPS装置における角度分解XPSを行うために設計した市販試料ブロックを改良した。これは現在完全コンピュータ制御下で六までの種々のターゲットからのイオンビームスパッタ蒸着を可能にした。イオンビーム蒸着は,超高真空条件下で高い純度の超薄層を堆積するための魅力的な技術であるが,一般的に非常に高価な技術である。我々の新しい試料ブロックは試料のスパッタ深さプロファイリングに通常用いられるイオン銃を用いたイオンビームスパッタリングを可能にし,コストを大きく減少させ,単一装置でその場実施(とXPSによって確認された)であることを堆積可能にした。貴金属は,薄い金属箔からのイオンビームスパッタリングにより安価かつ効率的に堆積した。効果を調べ,定量化するためにXPSに戻る前に試料を除去し,研究し,反応物又は表面処理に曝される可能性がある。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *イオン ,  マグネトロンスパッタリング ,  超高真空 ,  *スパッタ蒸着 ,  *X線光電子スペクトル ,  イオンビームスパッタリング ,  貴金属 ,  *計算制御 ,  表面処理 ,  純度 ,  *X線光電子分光法 ,  金属箔 ,  半導体接合 ,  *薄膜 ,  深さプロフィル ,  *イオンビーム

著者キーワード (5件)： XPS ,  X線光電子分光法 ,  deposition ,  その場 ,  組合せ

分類 (5件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K) ,  半導体の表面構造  (BK15030A) ,  有機化合物の物理分析  (CC03034A) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E)

タイトルに関連する用語 (6件)： 計算機制御 ,  薄層 ,  イオンビーム ,  スパッタ蒸着 ,  X線光電子分光法 ,  XPS