文献
J-GLOBAL ID:201702257784925628   整理番号:17A1501867

外部電場下での金基板の仕事関数低下に対する吸着層の効果【Powered by NICT】

The effect of the adsorbate layer on the work function reduction of gold substrates under external electric fields
著者 (3件):
資料名:
巻: 425  ページ: 776-780  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
ジメチルスルフィド(DMS)分子の間の界面相互作用と外部電場下で金基板を,密度汎関数理論法により研究した。偏極DMS吸着質は金基板の仕事関数を減少させる吸着に誘起された基板双極子は仕事関数を僅かに増加した。DMS層は電場からのAu(111)基板を保護する部分とDMS/Au(111)の真空準位はAu(111)結果のより少ないシフトした。Au(111)表面から外側へ指向電場下で,仕事関数の低下とDMS分子の吸着が表面で強化される。も吸着に及ぼす基板仕事関数の減少を利用したDMS分子を検出するための金ゲートを有する電界効果トランジスタ(FET)センサの適用可能性を示唆した。センサの理論的感度に及ぼす被覆率と電場の影響も検討した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
高分子固体のその他の性質  ,  蛋白質・ペプチド一般 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る