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J-GLOBAL ID：201702257836403048   整理番号：17A1750755

非平衡マグネトロンスパッタリングによるTi-N薄膜の色と性能の制御に関する研究【JST・京大機械翻訳】

Colors and Properties Regulation of Ti-N Film Deposited by Unbalanced Magnetron Sputtering

著者 (7件)： Yan Chengshuo (寧波工程学院 材料与化学工程学院,浙江 寧波,315211) ,  Li Ansuo (寧波工程学院 材料与化学工程学院,浙江 寧波,315211) ,  Zhu Chaoyue (寧波工程学院 材料与化学工程学院,浙江 寧波,315211) ,  Ye Chonghui (寧波工程学院 材料与化学工程学院,浙江 寧波,315211) ,  Zhang Ling (寧波工程学院 材料与化学工程学院,浙江 寧波,315211) ,  Bao Xiaoxuan (寧波工程学院 材料与化学工程学院,浙江 寧波,315211) ,  Bao Mingdong (寧波工程学院 材料与化学工程学院,浙江 寧波,315211)
資料名： Biaomian Jishu  (Biaomian Jishu)
巻： 46  号： 6  ページ： 168-173  発行年： 2017年 
JST資料番号： C2656A  ISSN： 1001-3660  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 【目的】Ti-N薄膜の色と硬度とその結合強度に及ぼす影響因子を研究する。方法:閉鎖磁場非平衡マグネトロンスパッタリング技術により、このスパッタスパッタバイアス、窒素流量などのパラメータを用いて、それぞれ304ステンレス鋼基板とスライドガラス基板上に多色Ti-N薄膜を堆積させた。Ti-N薄膜の微小硬さと接着強さを,硬度,スクラッチ法,およびボール・ピット法によって評価した。結果:バイアスとスパッタリング電流がそれぞれ60 Vと2 Aの時、反応ガスの窒素流量を3sccmから20sccmまで徐々に増加させ、Ti-N薄膜の色は順に「黄黄-金黄-紅黄-紫赤-金」の循環変化傾向が現れた。窒素流束の増加とともに,膜の硬度は601~700HKの範囲で増加した。膜結合は一般的に良好であった。窒素ガス流量とスパッタリング電流がそれぞれ10sccmと2Aのとき,負バイアス電圧は50Vから120Vに増加し,膜色は黄色から黄色に変化し,膜結合強度は良好であった。硬度はバイアスの増加とともに明らかに変化しなかった。結論:Ti-N薄膜の色に影響する主な要素は窒素流量であり、バイアスも薄膜の色を軽く変えることができるが、薄膜の性能に対する影響は明らかではない。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 窒素 ,  付着強さ ,  *非平衡状態 ,  *スパッタリング ,  *薄膜 ,  流量 ,  バイアス ,  電流 ,  硬度 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  微小硬さ ,  接着強さ
準シソーラス用語： バイアス電圧 ,  ガス流量 ,  スライドガラス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： magnetron sputtering ,  Ti-N film ,  N2 flow rate ,  sputtering current ,  bias ,  film color

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 非平衡 ,  マグネトロンスパッタリング ,  薄膜 ,  色 ,  研究