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J-GLOBAL ID：201702257893786868   整理番号：17A1546348

高速重イオン照射による多層Ni-Bi薄膜の界面仲介される増加した混合【Powered by NICT】

Interface mediated enhanced mixing of multilayered Ni-Bi thin films by swift heavy ion irradiation

著者 (6件)： Siva V. (School of Physical Sciences, National Institute of Science Education and Research, HBNI, Jatni 752050, India) ,  Chettah A. (Laboratoire LGMM, Groupe des materiaux fonctionnels, Universite 20 Aout 1955, Skikda, Algeria) ,  Ojha S. (Inter-University Accelerator Centre, Aruna Asaf Ali Marg, New Delhi 110067, India) ,  Tripathi A. (Inter-University Accelerator Centre, Aruna Asaf Ali Marg, New Delhi 110067, India) ,  Kanjilal D. (Inter-University Accelerator Centre, Aruna Asaf Ali Marg, New Delhi 110067, India) ,  Sahoo Pratap K. (School of Physical Sciences, National Institute of Science Education and Research, HBNI, Jatni 752050, India)
資料名： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 409  ページ： 314-317  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0899A  ISSN： 0168-583X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 照射フルエンスの関数としての100MeVのAuイオンを用いたNi/Bi多層膜のイオンビーム混合の効果を報告した。X線回折研究は,イオン照射後の元素NiおよびBiに比べてNiBi_3とNiBi相のより高い大きさを明らかにした。イオンフルエンスの増加とともに溶融のような表面に粒状構造の発展を観測した。これらの特徴は,Rutherford後方散乱分光法スペクトルに反映され,イオンフルエンスを増加すると強化された混合した。実験結果は,非弾性熱スパイクモデル計算に基づいて理解した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *薄膜 ,  *イオン ,  *イオン照射 ,  *界面 ,  多層膜 ,  熱スパイク ,  *ニッケル ,  フルエンス ,  Rutherford散乱分光法 ,  イオンビーム混合 ,  *多層 ,  *ビスマス ,  金
準シソーラス用語： イオンフルエンス ,  *高速重イオン照射 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： イオンビーム混合 ,  RBS ,  XRD ,  FESEM

分類 (1件)： その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 高速重イオン照射 ,  多層 ,  Ni ,  Bi ,  薄膜 ,  界面 ,  仲介