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J-GLOBAL ID:201702257909928218   整理番号:17A1830857

Kelvinプローブ力顕微鏡によるGaN系μLEDsにおける歪緩和分布に関する研究【Powered by NICT】

Study on Strain Relaxation Distribution in GaN-Based μLEDs by Kelvin Probe Force Microscopy
著者 (13件):
資料名:
巻: 14  号: 11  ページ: ROMBUNNO.201700222  発行年: 2017年 
JST資料番号: W1400A  ISSN: 1862-6351  CODEN: PSSCGL  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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InGaN量子井戸(QW)の偏光を,GaN系発光ダイオード(LED)のための重要な問題である。Kelvinプローブ力顕微鏡(KPFM)は,マイクロLED(μLEDs)のメサに及ぼす歪緩和分布を検出した。KPFMの結果を数値計算の助けを借りて解析した。空間電荷層(SCL)とバンド構造に及ぼす分極の効果を考慮に入れた。直径の異なるμLEDからKPFMのデータを比較すると,より小さなサイズμLEDは歪緩和の影響を受け大きな面積を持っていた。この現象はμLEDに対して優れた性能を保証する。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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顕微鏡法 
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