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J-GLOBAL ID：201702257915234205   整理番号：17A1391965

940及び975nmでの長パルスポンプ応用のための効率的な600Wレーザバー【Powered by NICT】

Efficient 600-W-Laser Bars for Long-Pulse Pump Applications at 940 and 975 nm

著者 (7件)： Karow M. M. (Leibniz-Institut fuer Hoechstfrequenztechnik, Berlin, Ferdinand-Braun-Institut, Germany) ,  Frevert C. (Leibniz-Institut fuer Hoechstfrequenztechnik, Berlin, Ferdinand-Braun-Institut, Germany) ,  Platz R. (Leibniz-Institut fuer Hoechstfrequenztechnik, Berlin, Ferdinand-Braun-Institut, Germany) ,  Knigge S. (Leibniz-Institut fuer Hoechstfrequenztechnik, Berlin, Ferdinand-Braun-Institut, Germany) ,  MaaBdorf A. (Leibniz-Institut fuer Hoechstfrequenztechnik, Berlin, Ferdinand-Braun-Institut, Germany) ,  Erbert G. (Leibniz-Institut fuer Hoechstfrequenztechnik, Berlin, Ferdinand-Braun-Institut, Germany) ,  Crump P. (Leibniz-Institut fuer Hoechstfrequenztechnik, Berlin, Ferdinand-Braun-Institut, Germany)
資料名： IEEE Photonics Technology Letters  (IEEE Photonics Technology Letters)
巻： 29  号： 19  ページ： 1683-1686  発行年： 2017年 
JST資料番号： T0721A  ISSN： 1041-1135  CODEN： IPTLEL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 受動冷却レーザバーからの長パルス(≧2 ms)への1.2J放出の最初の実証を報告した。これらの効率的な高い曲線因子棒は出力600WのYb:CaF_2レーザ媒質の長パルスポンピングのために開発した。空間輝度推定(23 MW/cm ~2×sr)は技術の現状を超えていた。棒は940と975nmでのポンピングのための極端な二重非対称と極めて低い垂直発散エピタキシャル設計に基づいた。最初の設計は高い電力変換効率η_E>60%(600W)で最適化したが,後者は,Yb:CaF_2(600Wでη_E=50%)の零フォノン線で低損失外部スペクトル安定化を可能にするために低垂直発散を示した。鉛直構造に起因する940nmと低い熱抵抗で高いη_Eは横遠方場を改善し,975nm構造の場合より約50%輝度を増加させた。曲線因子が70%で186年,400年,および1200μmストライプから成る横方向配置を変化させた。小さいストライプは最高輝度を示したが,偏光度はより広いストライプを用いて5%増加した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 遠方場 ,  輝度 ,  最適化 ,  *パルス ,  非対称性 ,  フォノン ,  熱抵抗 ,  エピタクシー ,  スペクトル
準シソーラス用語： 偏光度 ,  高輝度 ,  電力変換効率 ,  曲線因子 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： 半導体レーザ  (BD04070L) ,  発光素子  (NC03082G) ,  光通信方式・機器  (ND10000B) ,  その他の光伝送素子  (BD06040S)

タイトルに関連する用語 (3件)： パルス ,  応用 ,  レーザ