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J-GLOBAL ID：201702258030539471   整理番号：17A1930926

マグネトロンスパッタリングによるTiAlSiN膜の耐酸化性を調べた。【JST・京大機械翻訳】

Oxidation Resistance Properties of TiAlSiN Coatings Deposited by Magnetron Sputtering

著者 (6件)： Li Baohua (沈陽理工大学材料科学与工程学院,遼寧沈陽,110159) ,  Yin Xue (沈陽理工大学材料科学与工程学院,遼寧沈陽,110159) ,  Huang Man (沈陽理工大学材料科学与工程学院,遼寧沈陽,110159) ,  Zhang Zejian (沈陽理工大学材料科学与工程学院,遼寧沈陽,110159) ,  Zhang Gang (沈陽理工大学材料科学与工程学院,遼寧沈陽,110159) ,  Wang Qijun (沈陽市特種設備検測研究院,遼寧沈陽,110035)
資料名： Cailiao Baohu (Wuhan)  (Cailiao Baohu (Wuhan))
巻： 50  号： 7  ページ： 60-63  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0339A  ISSN： 1001-1560  CODEN： CAIBE3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 現在、TiAlNとTiAlSiN薄膜の800~1000°Cでの高温酸化時の硬度と抗酸化性能に関する研究は少ない。マグネトロンスパッタリング技術を用いて、高速鋼W18Cr4V表面上にTiAlNとTiAlSiN薄膜を調製し、Alターゲットパワーが100W、Siターゲットのスパッタリング電流が0.20Aの時、TiAlSiN薄膜の硬度と弾性率は最大値に達した。これらの条件下で,膜の大気高温酸化試験を行った。レーザー共焦点顕微鏡,走査電子顕微鏡(SEM),エネルギー分散X線分光法(EDS),X線回折(XRD)などの方法を用いて,800,900,1000Cでの2種類の薄膜の酸化抵抗を研究した。結果は以下を示した。同じ温度での酸化処理後に,TiAlSiN薄膜の表面粗さはTiAlN薄膜のそれより明らかに小さかった。TiAlN中にSi元素を導入することにより、Si3N4被覆TiNナノ結晶の複合構造が形成され、膜中の亀裂形成が抑制され、TiAlSiN薄膜の同じ酸化温度下での抗酸化性能はTiAlN薄膜より優れている。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 薄膜 ,  高速度鋼 ,  硬度 ,  ナノ結晶 ,  弾性係数 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  *ケイ素 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  X線回折 ,  *耐酸化性 ,  *スパッタリング ,  *酸化 ,  走査電子顕微鏡 ,  高温酸化
準シソーラス用語： 抗酸化能 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： magnetron sputtering ,  TiAlN ,  TiAlSiN ,  oxidation resistance ,  high temperature

分類 (4件)： 固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体の可視・紫外スペクトル  (BM08083Y)

タイトルに関連する用語 (2件)： マグネトロンスパッタリング ,  耐酸化性