文献

J-GLOBAL ID：201702258123814318   整理番号：17A0969471

Huisgen反応を用いたポスト官能化によるメッシュ基板の濡れ性の制御【Powered by NICT】

Controlling the wettability of mesh substrates by post-functionalization using the Huisgen reaction

著者 (3件)： Godeau Guilhem (Universite Nice Cote d’Azur, NICE Lab, IMREDD, 06100, Nice, France) ,  Guittard Frederic (Universite Nice Cote d’Azur, NICE Lab, IMREDD, 06100, Nice, France) ,  Darmanin Thierry (Universite Nice Cote d’Azur, NICE Lab, IMREDD, 06100, Nice, France)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 195  ページ： 67-73  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 後官能化による制御された濡れ性を有するプラットフォームメッシュ基板を作製するための電着の使用を初めて報告した。最初に,アジド(N_3)基を有するPEDOTナノファイバーメッシュワイヤ周囲電着した。,表面上の異なる疎水性置換基をグラフトするためにH uisgen反応は種々のアルキン(アルキル,ペルフルオロアルキルおよびアリール)を用いて使用されている。本研究では,表面形態と濡れ性の両方に及ぼす後処理の大きな影響を示した。も親油性(θ<5°)/超疎水性(θ>150°)または高疎油性(ヘキサデカンでθ>120°)/超疎水性表面(θ>150°)を調製するためのユニークなプラットフォームメッシュから開始する可能性を示した。このような技術は油と水に分離装置,例えばとして使用できた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 電着 ,  疎水性 ,  後処理 ,  *官能化 ,  *濡れ ,  分離装置 ,  移植片
準シソーラス用語： 疎油性 ,  超疎水性 ,  脂溶性 ,  表面形態 ,  置換基 ,  *Huisgen反応 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 超疎水性 ,  分離 ,  メッシュ ,  Nanostructures ,  導電性重合体

分類 (2件)： 電極過程  (CB07040U) ,  電気化学反応  (CB07050F)

物質索引 (1件)： ヘキサデカン

タイトルに関連する用語 (4件)： Huisgen反応 ,  官能化 ,  メッシュ ,  濡れ性