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J-GLOBAL ID:201702258369328700   整理番号:17A1286681

窒化ケイ素薄膜ナノポア調製とDNA分子検出に基づく【JST・京大機械翻訳】

Fabrication of Si3 N4 nanopore for DNA detection
著者 (7件):
資料名:
巻: 47  号:ページ: 265-270  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0606A  ISSN: 1001-0505  CODEN: DDXZB9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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集束イオンビームスパッタリングによる窒化ケイ素ナノ孔のスパッタリング時間とイオンビーム束の2つの主要パラメータを研究することによって,集束イオンビームスパッタリングのナノ孔の加工技術を最適化した。集束イオンビームを用いて窒化ケイ素薄膜を薄くすることにより、ナノ孔を再スパッタリングする加工プロセスを提案した。この加工技術を用いて、ナノ孔の直径と厚さを減少させるだけでなく、ナノ孔のテーパも減少させることができる。最後に、窒化ケイ素ナノ孔を利用して、異なる孔径のナノ孔が48kb λ-DNAの孔の姿勢に対する影響を研究した結果、孔径が大きい時、DNA分子の孔は多種の過孔の姿勢が存在し、孔径が小さいほど、DNA分子は容易に穴に引き付けられた。同時に、DNAの過孔時に引き起こされる閉塞電流に対して、簡易な計算モデルを提案した。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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固体デバイス製造技術一般 

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