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J-GLOBAL ID:201702258608425562   整理番号:17A1359512

全スペクトルはスケールマイクロエレクトロニクスCMOSにおける集積フォトニクス【Powered by NICT】

Full spectrum visible integrated photonics in scaled microelectronic CMOS
著者 (5件):
資料名:
巻: 2017  号: SUM  ページ: 129-130  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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本研究では,標準的な65nmマイクロエレクトロニクスCMOS300mm鋳造工場における統合電子-フォトニックプラットフォームを実証した。エレクトロニクスと並んで,著者らはマスクを用いないポストCMOSコンパチブル作製プロセスにより紫から操作NIRにシリコンアバランシェフォトダイオードと光導波路のモノリシック集積。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (2件):
分類
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光導波路,光ファイバ,繊維光学  ,  その他の光伝送素子 

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