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J-GLOBAL ID：201702258659121820   整理番号：17A0353077

イオンビームは,低応力と高応力の外部光学薄膜を形成する。【JST・京大機械翻訳】

Low stress DUV optical coatings deposited by ion beam sputtering

著者 (6件)： Cai Xikun (Engineering Research Center of Extreme Precision Optics,State Key Lab of Applied Optics,Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences) ,  Zhang Lichao (Engineering Research Center of Extreme Precision Optics,State Key Lab of Applied Optics,Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences) ,  Shi Guang (Engineering Research Center of Extreme Precision Optics,State Key Lab of Applied Optics,Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences) ,  He Jiankang (Engineering Research Center of Extreme Precision Optics,State Key Lab of Applied Optics,Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences) ,  Wu Xiaoye (Engineering Research Center of Extreme Precision Optics,State Key Lab of Applied Optics,Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences) ,  Mei Lin (Engineering Research Center of Extreme Precision Optics,State Key Lab of Applied Optics,Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences)
資料名： Zhongguo Guangxue  (Zhongguo Guangxue)
巻： 9  号： 6  ページ： 649-655  発行年： 2016年 
JST資料番号： C3067A  ISSN： 2095-1531  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： イオンビームスパッタリング法により、ALF_3、GDF_3単層膜及び193NMの防止とと系を調製し、それぞれ分光光度計、原子間力顕微鏡及び応力儀法を用いて薄膜の光学特性、微細構造及び残留応力を研究した。最適化された堆積パラメータで,それぞれ,1.1×10(-4)と3.0×10(-4)の消衰係数を有する低損失ALF_3とGDF_3薄膜を調製し,対応する屈折率はそれぞれ1.43と1.67であり,193NMでの透過率は99.6%であった。残留反射はほぼゼロであり,高反射率の反射率は99.2%,透過率は0.1%であった。応力測定結果により、ALF_3薄膜は引張応力を示し、GDF_3薄膜は圧縮応力を持ち、堆積条件に関係する低成長応力はALF_3とGDF_3薄膜の残留応力が小さい主な原因であることが分かった。これら2種類の材料を用いて調製した防止および高反膜系の応力は50MPA以下であった。平面と曲率半径が240MMの凸面部品に対して、修正バッフルを設計することにより、250MMの膜厚さの均一性は97%より優れている。サブナノメートルの精度は,193NMにおいて防止NMであり,そして,膜のRMSは,0.177NMから0.219NMに変化した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 原子間力顕微鏡 ,  応力測定 ,  残留応力 ,  イオンビームスパッタリング ,  屈折率 ,  *薄膜 ,  引張応力 ,  凸面 ,  透過率 ,  圧縮応力 ,  膜厚 ,  反射率 ,  曲率半径 ,  *光学薄膜 ,  計測
準シソーラス用語： 消衰係数 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： ion beam sputtering ,  stress ,  optical properties ,  thickness uniformity

分類 (2件)： 光物性一般  (BM08010A) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： イオンビーム ,  応力 ,  光学薄膜