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J-GLOBAL ID:201702258668576475   整理番号:17A1556933

温和な条件下での大きな比表面積を有するグラフェンをベースにした材料のふっ素化に及ぼす多孔質構造の活性化効果【Powered by NICT】

Activation effect of porous structure on fluorination of graphene based materials with large specific surface area at mild condition
著者 (6件):
資料名:
巻: 124  ページ: 288-295  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0270B  ISSN: 0008-6223  CODEN: CRBNA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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FPGMs,フッ素化2D多孔性グラフェン系材料は原料として多孔質活性化グラフェン材料を用いて合成した。PGMのフッ素化は空格子点,エッジと多数の欠陥を発生するメソおよびミクロ細孔の導入により活性化された。F/C比が0.67のフッ素化サンプルFPGM10は室温で得られた。一方,温帯ふっ素化条件を破壊からの多孔質構造,大きな比表面積と明確に定義されたミクロおよびメソ細孔を有するFPGMsを保証し,その中でFPGM10は~2/g約1100mのBET SSA値を示した。不対電子をもつCF結合近傍の裸のC原子は端部でフッ素原子のクラスタ化をもたらすF_2と高い反応性を示したが判明し,高度にふっ素化された端部領域が形成された。熱重量分析,電気化学的測定と計算機シミュレーションの結果は,同時にこの構造特性高い化学的および熱的安定性を有するFPGMsを確保を確認した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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炭素とその化合物 
タイトルに関連する用語 (5件):
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