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J-GLOBAL ID：201702258814671932   整理番号：17A0908477

ラジカル/分子反応を経由する2 ブロモフェノールと2 クロロフェノール前駆体からPXDD/Fsのための前中間体の生成機構に関する理論的研究【Powered by NICT】

Theoretical study on the formation mechanism of pre-intermediates for PXDD/Fs from 2-Bromophenol and 2-Chlorophenol precursors via radical/molecule reactions

著者 (5件)： Pan Wenxiao (State Key Laboratory of Environmental Chemistry and Ecotoxicology, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100085, PR China) ,  Fu Jianjie (State Key Laboratory of Environmental Chemistry and Ecotoxicology, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100085, PR China) ,  Fu Jianjie (College of Resources and Environment, University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100190, PR China) ,  Zhang Aiqian (State Key Laboratory of Environmental Chemistry and Ecotoxicology, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100085, PR China) ,  Zhang Aiqian (College of Resources and Environment, University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100190, PR China)
資料名： Environmental Pollution  (Environmental Pollution)
巻： 225  ページ： 439-449  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0984B  ISSN： 0269-7491  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ラジカル/分子機構を介して前PCDD/PCDF中間体の生成の反応経路を調べた。フェノキシラジカル,フェニルラジカルとフェノキシジラジカルを含む重要なラジカル種と2 ブロモフェノール(2 BP)と2 クロロフェノール(2 CP)前駆体の結合反応の熱力学的および速度論的パラメータを詳細に計算した。2-B(C)Pとフェノキシラジカルの結合はハロゲン化Oフェノキシフェノールの前PXDD中間体を生成する傾向がある。2-B(C)Pとフェニルおよびフェノキシジラジカルの組合せはPXDFsのprestructuresとして作用する排他的に二タイプの構造,すなわち,ジヒドロキシビフェニルおよびo-フェノキシフェニル,を生成した。,特にフェニルおよびフェノキシジラジカルにおけるフェニルC原子サイトを含むこれらの縮合反応は熱力学的,動力学的に有利であることが証明され,ラジカル/ラジカル反応に関与する対応する段階とほぼ同等であった。最も重要なことは,ハロゲン化フェノール類とフェニルおよびフェノキシジラジカルの反応は単にPXDFsの形成,ある程度実際的な環境下において高いPXDFにPXDD比に対するもっともらしい説明を提供することをもたらした。それゆえに,この研究は,均質な気相PCDD/PCDF生成におけるラジカル/分子機構の重要な役割,特にPXDF形成を明らかにした。本研究の結果は,これまでダイオキシン生成に関する存在していた知識ギャップを埋めると環境中のPCDD/PCDF形成特性の理解を深める。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 縮合反応 ,  速度論 ,  ラジカル反応 ,  *前駆体 ,  ハロゲン化 ,  フェノール類 ,  *ラジカル ,  フェニル基 ,  反応経路 ,  熱力学 ,  *中間体 ,  アリールラジカル ,  アリールオキシルラジカル
準シソーラス用語： 分子機構 ,  *クロロフェノール類 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： PXDD/Fs ,  形成機構 ,  ラジカル/分子反応 ,  DFT研究

分類 (2件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W) ,  動物に対する影響  (EE05040R)

物質索引 (2件)： フェニルラジカル ,  フェノキシラジカル

タイトルに関連する用語 (7件)： ラジカル ,  分子 ,  クロロフェノール ,  前駆体 ,  中間体 ,  理論 ,  研究