抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
レイアウトパターン密度に対する積極的制御は高度浄水処理の製造可能性のための重要な課題になっている。重症密度制約下でのアナログレイアウトに焦点を当てて,本論文では,密度を意識したフォーマットに協働レイアウト生成と検証する新しいアイデアを提供する。同じチャネルサイズの単位トランジスタを用いて,アレイを形成する著者らのアイデアは,アナログレイアウトのトランジスタアレイ(TA)式に従った。このスタイルでは,アレイピッチを変化させ,ポリゲートを延伸あるいは単位トランジスタの拡散を拡大によるレイアウトパターン密度を制御が可能になった。密度とDRC制約を満足する実現可能な設計パラメータを計測するためのフレームワークを提案した。65nmプロセスでOPAMPレイアウトの設計事例では,提案フレームワークは,手動延伸による従来式レイアウトと比較して,はるかに少ない繰り返しで設計を収束できることを実証した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】