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J-GLOBAL ID：201702258882805204   整理番号：17A1550724

グラフト化双性イオン高分子ブラシによる限外ろ過膜の防汚修飾の効果【Powered by NICT】

Efficacy of antifouling modification of ultrafiltration membranes by grafting zwitterionic polymer brushes

著者 (3件)： Davenport Douglas M. (Department of Chemical and Environmental Engineering, Yale University, New Haven, CT 06511, USA) ,  Lee Jongho (Department of Chemical and Environmental Engineering, Yale University, New Haven, CT 06511, USA) ,  Elimelech Menachem (Department of Chemical and Environmental Engineering, Yale University, New Haven, CT 06511, USA)
資料名： Separation and Purification Technology  (Separation and Purification Technology)
巻： 189  ページ： 389-398  発行年： 2017年 
JST資料番号： T0428B  ISSN： 1383-5866  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 限外ろ過(UF)膜の防汚修飾のためのグラフト化双性イオン高分子ブラシの効果を検討した。ポリ(フッ化ビニリデン)(PVDF)UF膜は,表面開始原子移動ラジカル重合(SI ATRP)で修飾した膜表面にポリ(スルホベタインメタクリレート)(PSBMA)ブラシをグラフト化した。蛋白質吸着試験と化学力顕微鏡は大きなブラシ層厚さ(100nm以上)が有効であるファウリング抵抗を与えるために必要であることを示した。ウシ血清アルブミン(BSA)ASAモデルファウリング物質を用いた動的汚損実験では,改質膜は元のPVDF膜と比較して,ファウリング後の透過流束回復のわずかな増加のみを示した。厚いPSBMAブラシ層にもかかわらず,この低い水フラックス回復は内部ファウリングが膜細孔内で起こることを示した。内部ファウリングを防ぐために,表面と膜の内部構造の両方にPSBMAブラシをグラフト化した。それにもかかわらず,動的汚損実験は再び水フラックス回収における微小改善のみを示した。厚いブラシ層は効率的なファウリング耐性に必要であるが,UF膜の細孔径は,気孔内にブラシ層厚さに基本的制限を課すことに注目した。最後に,防汚UF膜修飾のための高分子ブラシグラフト化の課題を議論し,ファウリング耐性UF膜を作ることができる代替法を示唆した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *高分子ブラシ ,  *ブラシ ,  細孔 ,  *移植片 ,  *双性イオン ,  透過流束 ,  *限外濾過 ,  細孔径
準シソーラス用語： 水フラックス ,  PVDF膜 ,  ウシ血清アルブミン ,  ファウリング ,  蛋白質吸着 ,  *汚損防止 ,  *限外濾過膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 限外ろ過 ,  防汚 ,  双性イオン ,  製造後 ,  ATRP

分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (6件)： グラフト ,  双性イオン ,  高分子ブラシ ,  限外ろ過膜 ,  防汚 ,  修飾