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J-GLOBAL ID：201702259101263249   整理番号：17A0602182

シリコンマイクロリング共振器における後方散乱の影響

Impact of Backscattering in Silicon Micro-ring Resonators on Photon Pair Generation

著者 (3件)： SUO Jing (Tsinghua Univ., Beijing, CHN) ,  ZHANG Wei (Tsinghua Univ., Beijing, CHN) ,  HUANG Yidong (Tsinghua Univ., Beijing, CHN)
資料名： Journal of the Physical Society of Japan  (Journal of the Physical Society of Japan)
巻： 86  号： 5  ページ： 054401.1-054401.7  発行年： 2017年05月15日 
JST資料番号： G0509A  ISSN： 0031-9015  CODEN： JUPSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコンマイクロリング共振器における後方散乱は,導波路の側壁粗さによるもので,対向伝搬モードに対する光の後方結合をもたらす。本論文において,~10⁴の品質因子(Q)をもつシリコンマイクロリング共振器における光子対生成に及ぼす後方散乱の影響を実験的に研究した。後方散乱の効果により,対の二光子が,共振器前方から出力するだけでなく,後方からも出力する,あるいは,一個は前方からであっても後方からももう一つを出力することを示した。異なる出力部分組み合わせの同時計数に関する分析は,後方散乱によるポンプ光反射の効果が弱いことを示した。光子対が,すべての部分組み合わせから出力する理由は,主に,共振器における後方散乱による生成信号/アイドラー光子の反射に依った。Franson型干渉の実験を行い,異なる方向から出力する光子対におけるエネルギー-時間もつれ合いの特性を研究した。実験結果は,後方散乱は,干渉縞に影響を与え得るが,エネルギー-時間もつれ合いは,この実験条件下のすべての場合に存在することを示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *リング共振器 ,  *ケイ素 ,  *後方散乱 ,  因子 ,  *対生成 ,  *同時計数 ,  *光反射 ,  からみ合 ,  干渉縞
準シソーラス用語： *マイクロリング共振器 ,  *シリコン ,  品質因子 ,  *光子対生成 ,  もつれ合い

分類 (3件)： 共振器  (NC04050Y) ,  光の散乱,回折,干渉  (BD03030M) ,  光学一般  (BD03010Q)

引用文献 (24件)：

• S. Clemmen, K. P. Huy, W. Bogaerts, R. G. Baets, P. Emplit, and S. Massar, Opt. Express 17, 16558 (2009).
• S. Azzini, D. Grassani, M. J. Strain, M. Sorel, L. G. Helt, J. E. Sipe, M. Liscidini, M. Galli, and D. Bajoni, Opt. Express 20, 23100 (2012).
• E. Engin, D. Bonneau, C. M. Natarajan, A. Clark, M. G. Tanner, R. H. Hadfield, S. N. Dorenbos, V. Zwiller, K. Ohira, N. Suzuki, H. Yoshida, N. Iizuka, M. Ezaki, J. L. O’Brien, and M. G. Thompson, Opt. Express 21, 27826 (2013).
• Y. Guo, W. Zhang, N. Lv, Q. Zhou, Y. Huang, and J. Peng, Opt. Express 22, 2620 (2014).
• L. G. Helt, Z. Yang, M. Liscidini, and J. E. Sipe, Opt. Lett. 35, 3006 (2010).

タイトルに関連する用語 (3件)： シリコン ,  マイクロリング共振器 ,  後方散乱