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J-GLOBAL ID：201702259169968683   整理番号：17A0950710

インプリントBiFeO₃膜の疲労特性に与えるエージングの効果

Effects of aging on fatigue properties in imprinted BiFeO₃ film

著者 (4件)： YAN J. (Univ. Jinan, Jinan, CHN) ,  YAN J. (Qilu Normal Univ., Jinan, CHN) ,  HU G. D. (Univ. Jinan, Jinan, CHN) ,  JIANG X. M. (Univ. Jinan, Jinan, CHN)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 28  号： 14  ページ： 10400-10405  発行年： 2017年07月 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： BiFeO₃(BFO)はCurie温度(~850°C)が高いので,アニーリング温度が低い(<600°C)デポジションプロセスで必然的にエージングにかかることになる。480°Cの有機金属分解プロセスで(012)に配向したBFO膜をPt(111)/Ti/SiO₂/Si基板上にあらかじめ制作した。P-Eヒステリシスループは負になり膜には明らかな抑制現象が観察された。部分的にエージングした試料を脱エージングする有効な方法としてリーク測定を行った。空間電荷制限伝導(SCLC)とオーミック伝導がそれぞれ正と負で電界が小さい場合と負電界の場合に主流になっている。高電界では界面に関連するFNトンネリングがBFO膜では効いている。部分エージングと脱エージングの試料には明らかな差が見られ,試験周波数と印加電界はエージングと脱エージング試料の両方の分極疲労特性に大きく影響している。

シソーラス用語： ビスマス化合物 ,  フェライト ,  鉄化合物 ,  機械的性質 ,  特性 ,  *時効処理 ,  Curie温度 ,  温度 ,  曲線 ,  ホッピング伝導 ,  電荷移動 ,  Fowler-Nordheimトンネリング
準シソーラス用語： BFO【化合物】 ,  アニーリング温度 ,  エージング【時効】 ,  ヒステリシスループ ,  *ビスマスフェライト ,  空間電荷制限伝導 ,  *疲労特性

分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

タイトルに関連する用語 (3件)： BiFeO3 ,  疲労特性 ,  エージング