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J-GLOBAL ID：201702259275177265   整理番号：17A1489575

成長中の大面積ダイヤモンド膜のために開発されたはしご円周方向アンテナを用いた915MHz/75kW円筒共振器型マイクロ波プラズマ化学気相蒸着反応器【Powered by NICT】

A 915MHz/75kW cylindrical cavity type microwave plasma chemical vapor deposition reactor with a ladder-shaped circumferential antenna developed for growing large area diamond films

著者 (16件)： Li Y.F. (Hebei Institute of Laser, Hebei Academy of Sciences, Shijiazhuang 050081, China) ,  Li Y.F. (Hebei Plasma Diamond Technology Co., Ltd., Shijiazhuang 050081, China) ,  An X.M. (Hebei Institute of Laser, Hebei Academy of Sciences, Shijiazhuang 050081, China) ,  An X.M. (Hebei Plasma Diamond Technology Co., Ltd., Shijiazhuang 050081, China) ,  Liu X.C. (Hebei Institute of Laser, Hebei Academy of Sciences, Shijiazhuang 050081, China) ,  Liu X.C. (Hebei Plasma Diamond Technology Co., Ltd., Shijiazhuang 050081, China) ,  Jiang L. (Hebei Institute of Laser, Hebei Academy of Sciences, Shijiazhuang 050081, China) ,  Jiang L. (Hebei Plasma Diamond Technology Co., Ltd., Shijiazhuang 050081, China) ,  Zhang P.W. (Hebei Institute of Laser, Hebei Academy of Sciences, Shijiazhuang 050081, China) ,  Zhang P.W. (Hebei Plasma Diamond Technology Co., Ltd., Shijiazhuang 050081, China) ,  Guo H. (Hebei Institute of Laser, Hebei Academy of Sciences, Shijiazhuang 050081, China) ,  Guo H. (Hebei Plasma Diamond Technology Co., Ltd., Shijiazhuang 050081, China) ,  Sun Z.L. (Hebei Institute of Laser, Hebei Academy of Sciences, Shijiazhuang 050081, China) ,  Sun Z.L. (Hebei Plasma Diamond Technology Co., Ltd., Shijiazhuang 050081, China) ,  Zhao H.Z. (Institute for Advanced Materials and Technology, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China) ,  Tang W.Z. (Institute for Advanced Materials and Technology, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China)
資料名： Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)
巻： 78  ページ： 67-72  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0498A  ISSN： 0925-9635  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 915MHz/75kW円筒共振器型マイクロ波プラズマ化学気相蒸着反応器は2.45GHz TM_021モードマイクロ波共振空洞をスケーリングすることにより設定した。新しい反応器は円筒形状,運転中の原子炉におけるプラズマ分布の調整機構を設定することができるを保持していた。さらに,はしご形円周方向アンテナはマイクロ波結合機構として用いた,蒸着チャンバの封止信頼性と反応器の高出力能力を確保した。実験では,3 5インチ径亀裂のないダイヤモンド膜を調製した。圧力は15~20kPaに設定し,使用された入力電力は40~60kWの間であった。ダイヤモンド膜の成長速度は異なるサイズと品質材料に対して1.6から5.6μm/hの範囲にあり,3と5インチ地域にわたって約±4%と±8%の範囲内の厚さの偏差であった。形態,結晶品質と同様にダイヤモンド膜の純度を光学顕微鏡,Raman及び光ルミネセンススペクトルを用いて特性化し,その結果は質とダイヤモンド膜の純度は優れていたことを証明した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： キャラクタリゼーション ,  *共振器 ,  純度 ,  *マイクロ波 ,  *ダイヤモンド ,  成長速度 ,  *蒸着 ,  *共振 ,  品質 ,  *反応器 ,  形態 ,  *円筒 ,  *プラズマ
準シソーラス用語： *マイクロ波プラズマ ,  *ダイヤモンド膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ダイヤモンド ,  MPCVD反応器 ,  マイクロ波電場 ,  プラズマ ,  915MHz

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (12件)： 成長 ,  大面積 ,  ダイヤモンド膜 ,  開発 ,  はしご ,  円周方向 ,  アンテナ ,  共振器 ,  マイクロ波プラズマ ,  化学 ,  気相蒸着 ,  反応器