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J-GLOBAL ID：201702259288301104   整理番号：17A0632805

一次元ナノ構造のパターン化のための濾過誘導組立

Filtration-guided assembly for patterning one-dimensional nanostructures

著者 (3件)： ZHANG Yaozhong (Michigan State Univ., MI, USA) ,  WANG Chuan (Michigan State Univ., MI, USA) ,  YEOM Junghoon (Michigan State Univ., MI, USA)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 28  号： 14  ページ： 145302,1-11  発行年： 2017年04月07日 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ多孔質濾過膜上に10ミクロン以下の分解能の様々なフォトレジスト(PR)パターンを生成することを可能にする,拡張可能で安価なナノ材料組立法,すなわちブランケット移転(BT)プロセスを提供する濾過誘導組立(FGA)を研究した。濾過膜として高い浸透性,および取り扱いの容易な柔軟性を有する混合セルロースエステル(MCE)を選択した。PRでパターン化したMCE膜による選択的な濾過は,10分以内に数百のSWCNT網を組み立てる方法を提供した。FGAとポリビニルアルコール(PVA)またはポリジメチルシロキサン(PDMS)を用いる移転プロセスを組み合わせることにより,SiO₂/Si基板上に材料損失の少ない半導体単層カーボンナノチューブ(SWCNT)網の乱雑な配列を作成した。移転したSWCNTの厚さおよび電気抵抗率を,20cm²の基板に渡って測定し,5%未満のばらつきであった。これらの半導電性のSWCNT網を,バックゲート電界効果トランジスタとして試験した。移転したSWCNT層の厚さが大きいために,電子移動度は良好で,オン/オフ電流比(<100)は比較的低かった。FGAを改善し,その方法を多様な基材に移転するために,まだ研究が必要である。

シソーラス用語： *濾過 ,  誘導 ,  組立 ,  *一次元 ,  *ナノ構造 ,  *パターン形成 ,  フォトレジスト ,  移動 ,  単層カーボンナノチューブ
準シソーラス用語： *パターン化 ,  移転

分類 (2件)： 成形工程とその装置一般  (YH04030C) ,  各種物理的手法  (CC01030W)

タイトルに関連する用語 (5件)： ナノ構造 ,  パターン化 ,  濾過 ,  誘導 ,  組立