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J-GLOBAL ID：201702259451569070   整理番号：17A0638637

リソグラフィーにより規定され,グラフト密度を系統的に変化させた高分子ブラシのナノトライボロジ研究

Nanotribological Investigation of Polymer Brushes with Lithographically Defined and Systematically Varying Grafting Densities

著者 (7件)： ZHANG Zhenyu J. (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR) ,  MOXEY Mark (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR) ,  ALSWIELEH Abdullah (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR) ,  ARMES Steven P. (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR) ,  LEWIS Andrew L. (Biocompatibles UK Ltd., Surrey, GBR) ,  GEOGHEGAN Mark (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR) ,  LEGGETT Graham J. (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 33  号： 3  ページ： 706-713  発行年： 2017年01月24日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2-ニトロフェニルプロピルオキシカルボニル保護された(アミノプロピル)トリエトキシシラン(NPPOC-APTES)溶液中にガラス基板を浸漬してシラン膜を形成した。325nmレーザ近接場フォトリソグラフィーにより脱保護パターンを形成した後,2-ブロモイソブチリルオキシド開始剤を用いる原子移動ラジカル重合(ATRP)により臭素末端ポリ(2-(メタクリロイルオキシ)エチルホスホリルコリン)(PMPC)をグラフト化させた。偏光解析により膜厚を調べた。2種のチップを用いる原子間力顕微鏡により摩擦を測定した。摩擦係数はブラシ高さにより連続的に変化し,書込み速度が遅い場合(開始剤濃度が高い場合)に摩擦係数は低下した。先端が鋭いチップによる測定ではブラシ分子鎖間にチップが入り込み,摩擦係数はブラシ高さと共に増大した。

シソーラス用語： フォトリソグラフィー ,  脱保護基 ,  パターン形成 ,  重合開始剤 ,  原子移動ラジカル重合 ,  *グラフト共重合 ,  *高分子ブラシ ,  *トライボロジー ,  原子間力顕微鏡 ,  *摩擦係数 ,  *表面改質 ,  脂肪族アミン ,  有機ケイ素化合物 ,  第一アミン
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  グラフト重合 ,  *ナノトライボロジー ,  開始剤 ,  薄膜形成 ,  *表面修飾

分類 (4件)： 高分子固体の力学的性質  (CG02023D) ,  固-固界面  (CB12060M) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

物質索引 (4件)： 2-メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン ,  3-アミノプロピルトリエトキシシラン ,  [3-(トリエトキシシリル)プロピル]カルバミド酸2-(2-ニトロフェニル)プロピル ,  N-[3-(トリエトキシシリル)プロピル]-2-ブロモ-2-メチルプロパンアミド

タイトルに関連する用語 (6件)： リソグラフィー ,  規定 ,  グラフト密度 ,  高分子ブラシ ,  ナノトライボロジ ,  研究