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J-GLOBAL ID：201702259517153929   整理番号：17A1784255

30MeV電子ビームによる回転タンタルターゲットによる放射線の発生を解析することにより,放射線の解析を行った。【JST・京大機械翻訳】

Analysis on bremsstrahlung characteristics of 30 MeV multi-pulse beams bombarding rotating tantalum-based target

著者 (5件)： Pang Jian (中国工程物理研究院流体物理研究所,中国工程物理研究院脉冲功率科学与技術重点実験室,四川綿陽621900) ,  He Xiaozhong (中国工程物理研究院流体物理研究所,中国工程物理研究院脉冲功率科学与技術重点実験室,四川綿陽621900) ,  Yang Liu (中国工程物理研究院流体物理研究所,中国工程物理研究院脉冲功率科学与技術重点実験室,四川綿陽621900) ,  Wang Ke (中国工程物理研究院流体物理研究所,中国工程物理研究院脉冲功率科学与技術重点実験室,四川綿陽621900) ,  Zhang Xuan (中国工程物理研究院流体物理研究所,中国工程物理研究院脉冲功率科学与技術重点実験室,四川綿陽621900)
資料名： Qiangjiguang yu Lizishu  (Qiangjiguang yu Lizishu)
巻： 29  号： 6  ページ： 75-80  発行年： 2017年 
JST資料番号： C2482A  ISSN： 1001-4322  CODEN： QYLIEL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 高周波直線加速器に基づくマルチパルスX線写真撮影システムを提案し,材料の動的性能の診断に用いることができる流体力学的研究に適用することができた。高周波加速器の特性に基づき,このシステムは,10μs以上の時間スパン,数十から数百nsのパルス幅を有するパルス電子ビームを発生でき,電子ビーム束の半値全幅は1mm以下である。モンテカルロシミュレーションプログラムGeant4によって,特定の幾何学的配置,異なる厚さ,および電子ビーム束の条件下で,電子ビームのターゲットのエネルギー堆積,ターゲットの電子ビーム散乱,および1mの照射量を計算した。このX線写真システムの応用可能性を検討した。結果により、30MeV、400nC電子ビームの衝撃厚さが1mmのターゲット条件下で、1mの照射量は約9.1Rであり、ターゲット厚さが1~2mmの範囲内では、X線焦点の明らかな増大が起こらないことが明らかになった。小さい横方向サイズの電子ビームは,ターゲットの局所的な温度上昇を引き起こし,パルスの数を制限することができる。回転ターゲットを用いてパルスの数を上げることができ、二次元回転ターゲットの応力を分析することによって、ターゲットの温度上昇及びタンタル/タンタル合金の降伏強度がパルス間隔に対する制限作用を分析した。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： FWHM ,  降伏強さ ,  パルス ,  加速器 ,  HF【周波数】 ,  *電子ビーム ,  二次元 ,  パルス幅 ,  X線写真 ,  X線 ,  散乱 ,  衝撃 ,  線形加速器 ,  昇温 ,  流体力学

著者キーワード (4件)： 強力ビームRFライナック ,  制動放射 ,  回転ターゲット ,  X線スポットサイズ

分類 (1件)： 電子ビーム,イオンビーム  (BD02030F)

タイトルに関連する用語 (5件)： 電子ビーム ,  タンタル ,  ターゲット ,  放射線 ,  解析