文献

J-GLOBAL ID：201702259654602587   整理番号：17A1247811

延伸したグラフェン上の水素原子とヒドロキシル基の化学吸着結合QM/QM研究【Powered by NICT】

Chemisorption of hydrogen atoms and hydroxyl groups on stretched graphene: A coupled QM/QM study

著者 (6件)： Katin Konstantin P. (Department of Condensed Matter Physics, National Research Nuclear University “MEPhI”, Kashirskoe Shosse 31, Moscow 115409, Russia) ,  Katin Konstantin P. (Laboratory of Computational Design of Nanostructures, Nanodevices and Nanotechnologies, Research Institute for the Development of Scientific and Educational Potential of Youth, Aviatorov Street 14/55, Moscow 119620, Russia) ,  Prudkovskiy Vladimir S. (Department of Physics, University of Crete, Heraklion, 71003, Greece) ,  Prudkovskiy Vladimir S. (Laboratory of Computational Design of Nanostructures, Nanodevices and Nanotechnologies, Research Institute for the Development of Scientific and Educational Potential of Youth, Aviatorov Street 14/55, Moscow 119620, Russia) ,  Maslov Mikhail M. (Department of Condensed Matter Physics, National Research Nuclear University “MEPhI”, Kashirskoe Shosse 31, Moscow 115409, Russia) ,  Maslov Mikhail M. (Laboratory of Computational Design of Nanostructures, Nanodevices and Nanotechnologies, Research Institute for the Development of Scientific and Educational Potential of Youth, Aviatorov Street 14/55, Moscow 119620, Russia)
資料名： Physics Letters. A  (Physics Letters. A)
巻： 381  号： 33  ページ： 2686-2690  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0600B  ISSN： 0375-9601  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非直交タイトバインディングモデルと結合した密度汎関数理論を用いて,無歪および引き伸ばされたグラフェンシート上の水素原子と水酸基の化学吸着を解析した。適用したQM/QMアプローチと比較して化学吸着エネルギー計算のためのグラフェンの有限クラスタモデルの欠点を検討した。ヒドロキシル基の化学吸着エネルギーが7.5%まで伸張での水素よりも十分に低いことを示した。同じ六角形に及ぼす水素とヒドロキシル基の同時対化学吸着も調べた。ortho位とpara位における二つのラジカルの吸着は考慮した全ての伸張でメタ位置よりエネルギー的に有利であることが分かった。さらにオルトとパラ位置における吸着剤対の間のエネルギー差は伸縮が上昇するにつれて減少した。グラフェン伸縮は,その表面上で二ラジカルの優先相互配置の損失に導くと結論することができた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： ラジカル ,  *化学吸着 ,  エネルギー計算 ,  *グラフェン ,  吸着剤 ,  直交性 ,  クラスタ模型 ,  エネルギーギャップ ,  *水素 ,  *ヒドロキシ基 ,  *吸着 ,  密度汎関数法
準シソーラス用語： 強束縛モデル ,  *水素原子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 歪んだグラフェン ,  ラジカル吸着 ,  化学吸着エネルギー ,  第一原理計算 ,  QM/QM研究

分類 (1件)： プラズマ一般  (BJ02010B)

タイトルに関連する用語 (6件)： 延伸 ,  グラフェン ,  水素原子 ,  ヒドロキシル基 ,  化学吸着 ,  研究