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J-GLOBAL ID：201702259877051742   整理番号：17A1250024

液-液界面に集合させた剥離した二次元遷移金属二カルコゲン化物からのパターン化された膜【Powered by NICT】

Patterned films from exfoliated two-dimensional transition metal dichalcogenides assembled at a liquid-liquid interface

著者 (8件)： Clark R. M. (School of Engineering, RMIT University, Melbourne, 3000, Australia. [e-mail]) ,  Berean K. J. ,  Carey B. J. ,  Pillai N. ,  Daeneke T. ,  Cole I. S. ,  Latham K. ,  Kalantar-zadeh K.
資料名： Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices  (Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻： 5  号： 28  ページ： 6937-6944  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2383A  ISSN： 2050-7526  CODEN： JMCCCX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 基板上に剥離した遷移金属ジカルコゲナイド(TMD)懸濁液の高度に制御された堆積は効率的でスケーラブルなエネルギー,電子,光学およびセンシングユニットの生成のための重要なステップである。ドロップキャスティングやスピンコーティングなどの伝統的な方法は一般的に不均一な堆積をもたらす。いくつかの方法は,界面活性剤あるいは開始剤分子の取り込み,粒子を汚染し,余分な処理段階を必要とするが必要である。ここでは,大面積上の剥離したTMDの作製した膜の制御されたパターン堆積のための容易な方法を報告した。液液界面はジメチルホルムアミド中のナノフレーク懸濁液から直接達成され,界面活性剤や化学修飾剤の添加なしである。剥離TMDから巨視的均一膜の信頼性のある大規模パターニングを実証し,疎水性パターン化基板を用いた。MicrocharacterizationsはTMDナノフレークを稠密薄膜へのエッジ-エッジ配置を介して集合することを示した。さらに,不均質膜も同じ液液界面法を用いて成功裏に実証,膜集合前の,単純混合剥離MoS_2とWS_2懸濁液した。TMD薄膜集合へのこの迅速な方法は,工業標準に適合する大規模2D材料の信頼性のある制御された堆積とCoパターン形成のための将来のプラットフォームを提供する。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *パターン形成 ,  疎水性 ,  重合開始剤 ,  *界面 ,  懸濁液 ,  薄膜 ,  *二次元 ,  スピンコーティング ,  液液界面 ,  信頼性 ,  界面活性剤 ,  脂肪族カルボン酸 ,  カルボアミド
準シソーラス用語： 化学修飾剤 ,  ナノフレーク ,  大面積 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  界面化学一般  (CB12010J) ,  金属の結晶成長  (BK13030M) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： ジメチルホルムアミド

タイトルに関連する用語 (3件)： 液 ,  集合 ,  遷移金属二カルコゲン化物