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J-GLOBAL ID:201702259878580768   整理番号:17A0704084

低コスト薄膜太陽電池のためのN_2雰囲気中でアニールした高品質カドミウムすず酸塩【Powered by NICT】

High-quality cadmium stannate annealed in N2 atmosphere for low-cost thin film solar cell
著者 (4件):
資料名:
巻:号: 30  ページ: 18545-18552  発行年: 2017年 
JST資料番号: U7055A  ISSN: 2046-2069  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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無線周波数マグネトロンスパッタリングによるすず酸カドミウム(Cd_2SnO_4)またはカドミウムすず酸化物(CTO)膜を窒素(N_2)雰囲気中でアニールした。アルゴン/酸素(Ar/O_2)ガススパッタしたCTO薄膜の電気抵抗率は高温アニーリング後に劇的に減少し,1.73×10~ 4Ωcmの最低の抵抗率を達成した。Ar/O_2ガス中で蒸着したCTO薄膜のCd_2SnO_4結晶相は600°Cでのアニーリング後に生じた635°Cまでと,光学バンドギャップはアニーリング後に明らかに増加した。堆積雰囲気は,純粋なArと,堆積したままのCTO抵抗率は10~ 4Ωcmの順であった。Arガス中で蒸着した薄膜の抵抗率はアニーリング後にわずかに低下した。しかし,Arガス下で堆積した厚膜の抵抗率はアニーリング後に劇的に増加した。アニーリング後に発生したArガススパッタしたCTOのCd_2SnO_4結晶相。CTO薄膜の可視領域と近赤外スペクトル透過率はN_2雰囲気中でのアニーリング後に増加した。Ar/O_2Inと620°CでN_2ガス中でのアニーリング後に析出したCTO薄膜の抵抗率は塩素処理後にわずかに増加した。Ar/O_2年に堆積し,その後620°CでN_2ガス中でアニールした膜の抵抗率は,600°Cで5分間真空アニーリング後にわずかに減少した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  半導体結晶の電気伝導 

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