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J-GLOBAL ID：201702260088532213   整理番号：17A0969007

一段階ゾル-ゲル法による高透過率を有する超疎水性シリカ反射防止膜【Powered by NICT】

Superhydrophobic silica antireflective coatings with high transmittance via one-step sol-gel process

著者 (8件)： Xu Juan (Institute of Solar Energy, Shanghai University of Electric Power, Shanghai 200090, China) ,  Liu Yongsheng (Institute of Solar Energy, Shanghai University of Electric Power, Shanghai 200090, China) ,  Du Wenlong (Institute of Solar Energy, Shanghai University of Electric Power, Shanghai 200090, China) ,  Lei Wei (Institute of Solar Energy, Shanghai University of Electric Power, Shanghai 200090, China) ,  Si Xiaodong (Institute of Solar Energy, Shanghai University of Electric Power, Shanghai 200090, China) ,  Zhou Tao (Institute of Solar Energy, Shanghai University of Electric Power, Shanghai 200090, China) ,  Lin Jia (Institute of Solar Energy, Shanghai University of Electric Power, Shanghai 200090, China) ,  Peng Lin (Institute of Solar Energy, Shanghai University of Electric Power, Shanghai 200090, China)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 631  ページ： 193-199  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 太陽ガラス上のシリカ反射防止膜は,電流出力を増加させる数パーセントによることが知られているが,貧弱な疎水性は被覆の性能を妨げるであろう。高透過率と優れた超疎水性を有する被覆は,低コストゾル-ゲル浸漬被覆法により調製した。共前駆体としてオルトケイ酸テトラエチルとトリメチルエトキシシランを用いて,塩基触媒加水分解はメチル基に富むシリカナノ粒子とハイブリッドゾルが形成された。最大透過率は97.1%と98.8%に達し,水接触角は152°までに達した。多孔度とナノ複合材料被覆の表面粗さは,屈折率変化及び光散乱を生じるに入れた。本論文では,超疎水性反射防止膜を作製するための効果的な戦略を提供する可能性があると修正された被覆は,大面積作製のための低製造コスト,優れた反射防止性能,良好な自己浄化特性と実現可能な方法の利点を有している。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 光散乱 ,  *反射防止膜 ,  ナノ複合材料 ,  *ゾル-ゲル法 ,  被覆 ,  *疎水性 ,  *透過率 ,  屈折率 ,  *ゲル ,  *二酸化ケイ素 ,  空隙率 ,  ガラス
準シソーラス用語： *反射防止 ,  水接触角 ,  *超疎水性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 反射防止被覆 ,  超疎水性 ,  ゾル-ゲル ,  シリカ ,  トリメチルエトキシシラン

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (6件)： 段階 ,  ゾル-ゲル法 ,  高透過率 ,  疎水性 ,  シリカ ,  反射防止膜