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J-GLOBAL ID：201702260495934385   整理番号：17A0749870

光グラフト化高分子マイクロスケールパターン上へのニッケルの無電解析出【Powered by NICT】

Electroless Deposition of Nickel on Photografted Polymeric Microscale Patterns

著者 (6件)： Carroll Gregory T. (Department of Chemistry, Columbia University, New York, NY, 10027, USA) ,  Lancaster Jeffrey R. (Department of Chemistry, Columbia University, New York, NY, 10027, USA) ,  Turro Nicholas J. (Department of Chemistry, Columbia University, New York, NY, 10027, USA) ,  Turro Nicholas J. (Department of Chemical Engineering, Columbia University, New York, NY, 10027, USA) ,  Koberstein Jeffrey T. (Department of Chemical Engineering, Columbia University, New York, NY, 10027, USA) ,  Mammana Angela (Department of Chemistry, University of Dayton, Dayton, OH, 45469, USA)
資料名： Macromolecular Rapid Communications  (Macromolecular Rapid Communications)
巻： 38  号： 2  ページ： ROMBUNNO.201600564  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0314B  ISSN： 1022-1336  CODEN： MRCOE3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フタルイミド末端自己集合単分子層(SAM)へのポリ(アクリル酸)(PAA)光グラフト化のマイクロパターン上へのNiの無電解析出を示した。PAAはフタルイミドSAMの上にスピンコートし,フォトマスクで覆われている。UV照射は選択的に表面の露出領域にPAAを結合し,非露光領域上のPAAを可能にする洗浄される。PAAが結合しているPd触媒は表面の領域に選択的に吸着した。吸着触媒はNi(SO_4)浴中への基板の浸漬にNiめっきを開始した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 露光 ,  *無電解めっき ,  浸漬 ,  *移植片 ,  パラジウム触媒 ,  ニッケルめっき ,  フォトマスク ,  *高分子 ,  吸着 ,  紫外線照射 ,  *ニッケル ,  ポリアクリル酸
準シソーラス用語： マイクロパターン ,  自己集合単分子膜 ,  フタルイミド , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 触媒 ,  無電解めっき ,  光グラフト化 ,  ポリマ ,  薄膜

分類 (4件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  無電解めっき  (WC08024S) ,  高分子担体・触媒反応  (CG03030W) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H)

タイトルに関連する用語 (5件)： グラフト ,  高分子 ,  マイクロスケール ,  ニッケル ,  無電解析出