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J-GLOBAL ID:201702260779528901   整理番号:17A1815853

多層スペクトロメータを用いたアンジュレータ放射線によるシリカ系薄膜の表面改質

Surface modifications in Silica-Based Films by Undurator Radiation with a multilayer spectrometer
著者 (3件):
資料名:
巻: 18  ページ: 43-45  発行年: 2017年09月 
JST資料番号: L4711A  ISSN: 2189-6909  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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NewSUBARU(BL7A)のアンジュレータ放射(UR)を用いて,導波路などの光デバイス用途のシリカ系膜を改質した。多層スペクトロメータを持つ又は持たないURを試料に照射して観測した結果を比較した。ピーク波長を短くすると,反射率が増加した(約10-3)。ピーク波長依存性は実験で見られたが,現時点では明確でない。吸収率増加と屈折率変化の間に相関を認め,屈折率変化の起源を示唆した。これは試料中の高吸収率層除去後の屈折率低下によっても裏付けられた。スペクトロメータを用いて又は用いずに照射した試料の間の違いは照射強度と試料の温度効果に起因すると思われる。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
分類
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その他の物質の放射線による構造と物性の変化 
引用文献 (2件):
  • K.Moriwaki et al., LASTI Annual Report vol.16 (2014).
  • K.Moriwaki et al., LASTI Annual Report vol.17 (2015).

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