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J-GLOBAL ID:201702260794762218   整理番号:17A0619574

地場産業を支える公設試験機関の研究開発(その2)高周波数デトネーション溶射による高融点セラミックス皮膜の作製

著者 (8件):
資料名:
巻: 87  号:ページ: 513-517  発行年: 2017年06月01日 
JST資料番号: F0157A  ISSN: 0368-6337  CODEN: KNZKA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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溶射法の1つである爆発溶射法は,セラミックスを溶融するのに十分な高温度を得ることができ,また粒子の加速による皮膜の緻密化が期待できるが,周波数が低く間欠的な溶射であるため,皮膜形成速度が遅いことが課題であった。そこで,独自のバルブレスモードと呼ぶガス供給技術を用いて高周波数での運転が可能な高周波数デトネーション溶射(PD溶射)装置を開発した。本装置により,酸化度の低い金属皮膜をはじめ,酸化アルミニウムの緻密な皮膜,融点が高い安定化ジルコニアの緻密な皮膜を作製した。さらに,燃焼時の条件を最適化することで,従来法では困難であった非酸化物系セラミックスの窒化アルミニウムの皮膜形成を可能にした。この皮膜は窒化アルミニウム残存率が高く気孔率の低い緻密な皮膜であった。
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分類 (1件):
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金属材料へのセラミック被覆 

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