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J-GLOBAL ID：201702260820691351   整理番号：17A1077336

ニッケル線の腐食防止のための管状グラフェンの層制御

Layer Control of Tubular Graphene for Corrosion Inhibition of Nickel Wires

著者 (8件)： NGUYEN An T. (National Chung Cheng Univ., Chia-Yi, TWN) ,  LAI Wei-Cheng (National Chung Cheng Univ., Chia-Yi, TWN) ,  TO Bao Dong (National Chung Cheng Univ., Chia-Yi, TWN) ,  NGUYEN Duc Dung (National Tsing-Hua Univ., Hsinchu, TWN) ,  HSIEH Ya-Ping (National Chung Cheng Univ., Chia-Yi, TWN) ,  HOFMANN Mario (National Taiwan Univ., Taipei, TWN) ,  KAN Hung-Chih (National Chung Cheng Univ., Chia-Yi, TWN) ,  HSU Chia-Chen (National Chung Cheng Univ., Chia-Yi, TWN)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 9  号： 27  ページ： 22911-22917  発行年： 2017年07月12日 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アニールプロセスにより酢酸セルロース(CA)膜量を調節することによって,管状グラフェン(TG)の層を制御した。より多くのCAを使用すると,Raman,AFM,およびHRAEMの結果によって証明されるように,グラフェン層の増加を観察した。すべての試料の中で最も厚いグラフェン層を有するTG被覆Niワイヤ(GNi)は,異なる環境下で最も低い腐食電流密度,および腐食速度値を示し,その最良の耐腐食性を示した。対照的に,最も薄いグラフェン層を有するGNiは,他の2つのGNiサンプルと比較して最も高い腐食電流密度および腐食速度値を示した。さらに,グラフェンで被覆したNiサンプルについて,EIS分析でより大きなインピーダンス値を見出した。

シソーラス用語： *防食 ,  *ニッケル ,  *グラフェン ,  *境界層制御 ,  熱処理 ,  セルロースアセテート ,  Ramanスペクトル ,  原子間力顕微鏡 ,  化学蒸着 ,  スペクトロスコピー ,  インピーダンス ,  腐食電流 ,  電流密度 ,  腐食速度 ,  走査電子顕微鏡 ,  X線光電子分光法 ,  キャラクタリゼーション ,  エネルギー分散X線分光分析
準シソーラス用語： AFM【顕微鏡】 ,  CVD【化学蒸着】 ,  EIS【分光法】 ,  酢酸セルロース ,  熱アニール ,  *腐食防止

分類 (3件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の無機化合物の結晶成長  (BK13060T) ,  腐食・防食一般  (WB03010F)

タイトルに関連する用語 (4件)： ニッケル ,  腐食防止 ,  グラフェン ,  層