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J-GLOBAL ID：201702261107172083   整理番号：17A0953291

容量結合したVHF H₂プラズマの空間的プロファイルのシミュレーション検討

Study of spatial profiles of capacitively coupled VHF H₂ plasma by simulation

著者 (8件)： CHEN Kuan-Chen (Feng Chia Univ., Taichung, TWN) ,  CHEN Kuan-Chen (Central Taiwan Univ. Sci. and Technol., Taichung, TWN) ,  CHIU Kuo-Feng (Feng Chia Univ., Taichung, TWN) ,  OGIWARA Kohei (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  SU Li-Wen (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  UCHINO Kiichiro (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KAWAI Yoshinobu (Feng Chia Univ., Taichung, TWN) ,  KAWAI Yoshinobu (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 56  号： 1S  ページ： 01AC05.1-01AC05.8  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマハイブリッドコードを使用した二次元シミュレーションによって,異なる放電間隙距離をもつ圧力66.7Pa・133.3PaのVHF H₂プラズマ(60MHz)の空間的プロファイルを調べた。電子密度プロファイルはピークをもち,最大密度は,放電間隙距離と圧力に依存した。放電間隙が15mmと20mmの場合,約1eVの低電子温度をもつ高電子密度プラズマがシミュレーションから予測された。プラズマポテンシャルプロファイルは,中心部の平坦領域と両側の急傾斜領域から構成される。放電間隙距離が10・15・20mmの場合について,H⁺・H₂⁺・H₃⁺の軸方向プロファイルを計算した。66.7Paの場合,放電電極近傍を除いて,主要イオン種はH₃⁺であり,一方,放電電極近くにおけるH₂⁺密度は,H₃⁺密度と比較して無視できないことが明らかになった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *プラズマ ,  イオン密度 ,  密度分布 ,  電子密度 ,  *空間分布 ,  放電ギャップ ,  プラズマシミュレーション
準シソーラス用語： 放電プラズマ ,  *水素プラズマ ,  イオン分布 ,  電子密度分布

分類 (1件)： 気体放電  (BJ03020T)

引用文献 (43件)：

• K. Radouane, B. Despax, M. Yousfi, J. P. Couderc, E. Klusmann, H. Meyer, R. Schulz, and J. Schulze, J. Appl. Phys. 90, 4346 (2001).
• T. Novikova, B. Kalache, P. Bulkin, K. Hassouni, W. Morscheidt, and P. Roca i Cabarrocas, J. Appl. Phys. 93, 3198 (2003).
• B. Kalache, T. Novikova, A. Fontcuberta i Morral, P. Roca i Cabarrocas, W. Morscheidt, and K. Hassouni, J. Phys. D 37, 1765 (2004).
• A. Salabas, L. Marques, J. Jolly, G. Goussel, and L. L. Alves, J. Appl. Phys. 95, 4605 (2004).
• L. Marques, L. Jolly, and L. L. Alves, J. Appl. Phys. 102, 063305 (2007).

タイトルに関連する用語 (6件)： 容量結合 ,  VHF ,  H2 ,  プラズマ ,  プロファイル ,  シミュレーション