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J-GLOBAL ID：201702261243475230   整理番号：17A1456567

応答曲面法遺伝的アルゴリズムに基づく技術を用いたWeissella cibaria NITCSK4によるデキストラン生産の最適化【Powered by NICT】

Optimization of dextran production by Weissella cibaria NITCSK4 using Response Surface Methodology-Genetic Algorithm based technology

著者 (4件)： Kanimozhi J. (Department of Chemical Engineering, National Institute of Technology Calicut, Kerala-673601, India) ,  Moorthy I. Ganesh (Department of Biotechnology, Kamaraj College of Engineering and Technology, Virudhunagar, Tamilnadu-626001, India) ,  Sivashankar R. (Department of Chemical Engineering, National Institute of Technology Calicut, Kerala-673601, India) ,  Sivasubramanian V. (Department of Chemical Engineering, National Institute of Technology Calicut, Kerala-673601, India)
資料名： Carbohydrate Polymers  (Carbohydrate Polymers)
巻： 174  ページ： 103-110  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0961A  ISSN： 0144-8617  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Weissella cibaria NITCSK4によるデキストラン生産に最も影響する因子は,95%の信頼限界決定の係数(R~2)99.58%の高い値でPlackett Burman設計を用いてスクリーニングした。重要な因子,すなわち,しょ糖,温度,ジカリウム水素ホスファート(K_2HPO_4)と酵母エキスの複合効果を応答曲面法(RSM)を用いて最適化した。RSMによって予測された非線形モデルの入力パラメータは,最大デキストラン収率を得るための遺伝的アルゴリズム(GA)を用いて最適化した。最大収率は15.78%,酵母エキス1.27%,K_2HPO_41 0.25%のショ糖濃度,及び26°Cで得られた。予測条件を実験的に検証し,43.79mg/mlのデキストランを作製した。デキストラン収率は最適化されていない培地に比較して51%高かった。26°Cで生成したデキストランの分子量が>2000kDaであった。NMR分光分析は,NITCSK4が支配的なα(1 6)結合を有する直鎖デキストリンを生成することを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 分子量 ,  リン酸塩 ,  *デキストラン ,  NMR【磁気共鳴】 ,  酵母エキス ,  *応答曲面法 ,  *最適化 ,  分光分析 ,  *遺伝的アルゴリズム ,  予測 ,  信頼限界 ,  二糖類 ,  ピラノシド ,  フラノシド ,  グルコシド ,  フルクトオリゴ糖
準シソーラス用語： 入力パラメータ ,  非線形モデル ,  *Weissella cibaria , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Weissella cibaria NITCSK4 ,  デキストラン ,  Plackett burman設計 ,  応答曲面法と遺伝的アルゴリズム。

分類 (1件)： 多糖類  (CF10054P)

物質索引 (1件)： 蔗糖

タイトルに関連する用語 (5件)： 応答曲面法 ,  遺伝的アルゴリズム ,  Weissella ,  デキストラン ,  最適化