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J-GLOBAL ID：201702261411224843   整理番号：17A1360604

ニトロソアミドH₂NNOの検出と構造特性化: 脱NO_x過程における中心的中間体

Detection and structural characterization of nitrosamide H₂NNO: A central intermediate in deNO_x processes

著者 (3件)： McCarthy Michael C. (Harvard-Smithsonian Center for Astrophysics, Cambridge, Massachusetts 02138, USA and School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, 29 Oxford St., Cambridge, Massachusetts 02138, USA) ,  Lee Kin Long Kelvin (Harvard-Smithsonian Center for Astrophysics, Cambridge, Massachusetts 02138, USA and School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, 29 Oxford St., Cambridge, Massachusetts 02138, USA) ,  Stanton John F. (Department of Chemistry and Biochemistry, The University of Texas at Austin, 1 University Station A5300, Austin, Texas 78712-0165, USA)
資料名： Journal of Chemical Physics  (Journal of Chemical Physics)
巻： 147  号： 13  ページ： 134301-134301-9  発行年： 2017年10月07日 
JST資料番号： C0275A  ISSN： 0021-9606  CODEN： JCPSA6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最も単純なN-ニトロソアミンであり,脱NO_x過程における重要な中間体であるH₂NNOの構造と結合を,そのより豊富な同位体種に関する回転分光法と高水準の量子化学計算の組合せを用いて,精密に特徴づけた。同位体分光法によって,この化学種がNH₂+NO反応による放電膨張において速やかに形成され,引き続く単分子転位の前に衝突冷却されるという説得力のある証拠を提供した。H₂NNOは本質的に平面形であり,113.67(5)°のNNO角,および1.342(3)ÅのN-N結合長を有することがわかり,導かれた窒素四重極結合定数と組み合わせて,その結合は非荷電双極子(H₂N-N=O,単結合)および双性イオン(H₂N⁺=N-O^-,二重結合)構造の混合物として最も良く記述される。CCSD(T)水準で,完全基底関数系限界への外挿することで,この平面構造はポテンシャル面の最小を示すが,この分子のねじれポテンシャルは非常に平坦である。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ニトロソアミン ,  接触還元 ,  *反応中間体 ,  同位体 ,  CCSD/T法 ,  転位反応 ,  衝突冷却 ,  *分子構造 ,  四重極 ,  基底関数系 ,  平面構造 ,  ポテンシャルエネルギー面 ,  双性イオン ,  回転スペクトル
準シソーラス用語： 脱NOX

分類 (2件)： 分子の電子構造  (BH05010Q) ,  一般及び無機化合物のラジオ波・マイクロ波スペクトル(分子)  (BH06021Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： 構造特性 ,  脱NOX ,  過程 ,  中間体