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J-GLOBAL ID：201702261449499281   整理番号：17A0684929

無秩序ピン止め基板上の活性物質に対するディウェッティングおよび拡大転移

Dewetting and spreading transitions for active matter on random pinning substrates

著者 (4件)： Sandor Cs. (Theoretical Division and Center for Nonlinear Studies, Los Alamos National Laboratory, Los Alamos, New Mexico 87545, USA) ,  Libal A. (Theoretical Division and Center for Nonlinear Studies, Los Alamos National Laboratory, Los Alamos, New Mexico 87545, USA) ,  Reichhardt C. (Theoretical Division and Center for Nonlinear Studies, Los Alamos National Laboratory, Los Alamos, New Mexico 87545, USA) ,  Olson Reichhardt C. J. (Theoretical Division and Center for Nonlinear Studies, Los Alamos National Laboratory, Los Alamos, New Mexico 87545, USA)
資料名： Journal of Chemical Physics  (Journal of Chemical Physics)
巻： 146  号： 20  ページ： 204903-204903-6  発行年： 2017年05月28日 
JST資料番号： C0275A  ISSN： 0021-9606  CODEN： JCPSA6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 無秩序ピン止め基板の存在下における,立体相互作用した自己推進円板が,各種の異なる状態間の転移を発現することを示した。特に,クラスタ状態から分離した相から,円板は拡大し,均一に基板を被覆して,活性物質濡れ転移の例として眺めることができた。この転移の位置を活性,円板密度および基板強度の関数として図示し,クラスタと迷路的な濡れ相の間に共存するクラスタ相を含む他の相およびピン止め液体を同定した。これら相の便利な指標はクラスタサイズで,これは,濡れ-ディウェッティング転移において,およびディウェッティングが生じたとき低下する6配位粒子の分率で,低下した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ピン止め ,  *無秩序系 ,  *濡れ ,  *秩序無秩序転移 ,  推進 ,  *円板 ,  *クラスタ ,  運動方程式 ,  温度分布 ,  *計算機シミュレーション ,  流体力学 ,  密度分布 ,  マイクロプロセッサ ,  専用プロセッサ ,  減衰特性
準シソーラス用語： GPU【プロセッサ】 ,  クラスター状態 ,  *ディウェッティング ,  過減衰 ,  自己推進 ,  動力学シミュレーション

分類 (3件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  数値計算  (JE02000J) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E)

タイトルに関連する用語 (4件)： ピン止め ,  活性物質 ,  ディウェッティング ,  拡大