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J-GLOBAL ID:201702261584509120   整理番号:17A0881619

非晶質GeSe_2Sn(0≦x≦0.8)薄膜の電気的性質に及ぼす組成の影響の研究【Powered by NICT】

Investigation of composition effect on electrical properties of noncrystalline GeSe2- Sn (0 ≦ x ≦ 0.8) thin films
著者 (6件):
資料名:
巻: 710  ページ: 349-354  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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非晶質GeSe_2Sn_x(0≦x≦0.8)膜を,真空蒸着法によりpaperedした。X線回折はこれらの膜の非晶質性を付与した。GeSe_2Sn_薄膜の直流伝導率σ_dc,298 444の温度範囲でモル組成の関数として実施した。結果はσ_dcはSn組成,それはFermi準位の移動のためと考えられる増加と共に増加することを示した。添加では,伝導率は二つの伝導機構を有する熱活気づきプロセスである。高温領域では,伝導率はMeyer-Neldel則を利用した構築されていた。低温領域では,伝導率はMottの可変領域ホッピング伝導を利用した構築されていたとMottパラメータを計算した。,電流密度-電圧特性は,すべての薄膜試料を測定した。すべて研究した試料の実験データは空間電荷制限伝導(SCLC)の理論とよく一致した。状態密度(DOS)はSCLC測定を用いて確認した。Snの同心度の増加に伴うDOSの増加は欠陥状態の増加のためと考えられる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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その他の無機化合物の電気伝導 
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