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J-GLOBAL ID：201702261649736181   整理番号：17A1836325

カーボンナノチューブ上の低温パルス自己整合ナノトレンチアブレーションにより可能になったSub-15nmナノワイヤ【Powered by NICT】

Sub-15 nm nanowires enabled by cryo pulsed self-aligned nanotrench ablation on carbon nanotubes

著者 (6件)： Deshmukh Sanchit (Department of Electrical Engineering, Stanford University, Stanford, California, USA) ,  Lian Feifei (Department of Electrical Engineering, Stanford University, Stanford, California, USA) ,  Yalon Eilam (Department of Electrical Engineering, Stanford University, Stanford, California, USA) ,  Pitner Gregory (Department of Electrical Engineering, Stanford University, Stanford, California, USA) ,  Wong H.-S. Philip (Department of Electrical Engineering, Stanford University, Stanford, California, USA) ,  Pop Eric (Department of Electrical Engineering, Stanford University, Stanford, California, USA)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： NANO  ページ： 489-490  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電流技術ノードにおける特徴のナノパターニングは,高価な真空紫外線リソグラフィーまたは低スループット電子ビームリソグラフィーを必要とする。金属パターニングのためのサブ15nm寸法を達成するためにカーボンナノチューブ(CNT)可能にした自己整合ナノトレンチアブレーション(Santa)の改質を実証した。法は,高度にスケール特徴の定義のための低温環境温度( 120°C)で典型的な高分子,ポリメタクリル酸メチル(PMMA)内のナノスケール熱輸送を利用する。法はサブ10nm寸法以下のナノファブリケーションのための有望であることを示した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *低温 ,  *パルス ,  *自己整合 ,  スループット ,  *ナノワイヤ ,  パターン形成 ,  電子ビームリソグラフィー ,  高分子 ,  *カーボンナノチューブ
準シソーラス用語： ナノファブリケーション ,  熱輸送 ,  ナノスケール ,  低温環境 ,  紫外線リソグラフィー ,  ナノパターニング , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  触媒の調製  (CB06110P)

タイトルに関連する用語 (5件)： カーボンナノチューブ ,  低温 ,  パルス ,  自己整合 ,  ナノワイヤ