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J-GLOBAL ID:201702261721624244   整理番号:17A0554532

Y-ドープCeO2ナノロッド上のシクロヘキサンとシクロヘキセンの酸化脱水素

Oxidative Dehydrogenation of Cyclohexane and Cyclohexene over Y-doped CeO2 Nanorods
著者 (4件):
資料名:
巻: 147  号:ページ: 738-744  発行年: 2017年03月 
JST資料番号: T0669A  ISSN: 1011-372X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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Y-ドープCeO2と純CeO2のナノロッド上における,シクロヘキサンとシクロヘキセンの酸化脱水素反応に対する触媒活性が評価された。Y添加量の増加に伴って酸素空孔が増加し,酸化脱水素反応の転化率と選択性が変化した。4at%のYがドーピングされたCeO2ナノロッドは,シクロヘキサンの酸化脱水素反応に対して,バナジウム触媒に比べて,反応温度が450°C低い,150°Cの低い温度で20%の転化率と,38%のシクロヘキセン,11%のベンゼン選択率を示した。
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分類 (2件):
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その他の触媒  ,  塩基,金属酸化物 
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