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J-GLOBAL ID：201702262154320109   整理番号：17A1720370

横方向磁壁における非対称性の程度に及ぼす磁気ナノワイヤのエッジ粗さの影響【Powered by NICT】

The effect of edge-roughness of magnetic nanowires on the degree of asymmetry in transverse domain walls

著者 (4件)： Hoang Duc-Quang (Sustainable Development in Civil Engineering Research Group, Faculty of Civil Engineering, Ton Duc Thang University, 19 Nguyen Huu Tho Street, District 7, Ho Chi Minh City 700000, Vietnam. [e-mail]) ,  Tran Minh-Tung ,  Cao Xuan-Huu ,  Ngo Duc-The
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 7  号： 78  ページ： 49188-49193  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マイクロ磁気シミュレーションと実験的顕微鏡法を用いた磁気ナノワイヤ中に生成した横方向磁壁における非対称性の定量的測定を提示した。これはこれらの壁の非対称性を定義するか検討することを目的とした。横方向磁壁は直線パーマロイナノワイヤでシミュレートした。非対称性の測定は,各横磁壁内の表面磁化成分と領域間の相関により記述した。シミュレーション結果は,ナノワイヤ幅の増加に伴って対称性と非対称性壁相の間の相変態の明確な傾向を示した。異なる幅を持つ曲がったナノワイヤを集束イオン照射法によりパターン化した。Lorentz顕微鏡画像からの測定は,曲がったナノワイヤで作られた壁の非対称性の程度は,これらのナノワイヤのエッジ粗さに強く影響されることを示した。曲がったナノワイヤにおける実験とシミュレーションの結果は,エッジ粗さの影響による直線状ナノワイヤのためのシミュレーションデータの傾向の近くにある。これらの知見は非対称のものへの,及びその逆の対称横方向磁壁からの遷移の定量的測定の新しい経路マップに大きく寄与すると考えられる。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ナノワイヤ ,  顕微鏡観察 ,  *磁壁 ,  画像 ,  シミュレーション ,  *対称性 ,  集束 ,  *非対称性 ,  イオン照射 ,  磁化 ,  パターン形成
準シソーラス用語： Lorentz顕微鏡 ,  マイクロマグネティックシミュレーション ,  *磁気ナノワイヤ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 磁性理論  (BM06020X) ,  トランジスタ  (NC03070N)

タイトルに関連する用語 (7件)： 横方向 ,  磁壁 ,  非対称性 ,  程度 ,  磁気ナノワイヤ ,  エッジ ,  粗さ